電感耦合等離子體質(zhì)譜儀
根據(jù)您的需求量身定制版ICP-MS
超高靈敏度： 靈敏度【cps/ppm】低質(zhì)量數(shù)：7Li ≥100 M，中質(zhì)量數(shù)：115In ≥500 M，高質(zhì)量數(shù)：238U ≥500 M; 氧化物產(chǎn)率（CeO+/Ce+）：≤1.8 %
低運(yùn)行成本：氬氣消耗降低50%
高效：樣品分析速率提升 50%
穩(wěn)定：輕松應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜基體，確保優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性
靈活：根據(jù)不同應(yīng)用多樣化配置儀器
高靈敏度和最快的分析速度
PlasmaQuant MS 的靈敏度可顯著提高樣品分析效率降低單樣品分析成本。設(shè)計(jì)的ICP-MS分析確保在極短的積分時(shí)間或大比例稀釋的前提下，依然可以獲得低的檢出限和恒定的分析速率。這就保證了最大的樣品通量、分析結(jié)果的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及重復(fù)性，并顯著減少日常維護(hù)頻率。
最佳檢出限
高樣品通量
顯著降低樣品前處理工作量
出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性
低維護(hù)
業(yè)內(nèi)的分析性能和低使用成本
PlasmaQuant MS無以倫比的高靈敏度實(shí)現(xiàn)了業(yè)內(nèi)低檢測(cè)限。的質(zhì)譜分辨率和低豐度同位素最佳檢測(cè)靈敏度使PlasmaQuant MS在超低痕量分析、超低濃度形態(tài)分析、直徑小于10nm的單納米顆粒物分析和高精密度同位素比值分析等應(yīng)用領(lǐng)域獲得最佳的分析結(jié)果。PlasmaQuant MS的靈敏度使其能夠在確保精密度和重復(fù)性的前提下顯著縮短分析時(shí)間。的質(zhì)譜干擾消除系統(tǒng)iCRC可高效、簡(jiǎn)潔、快速地消除ICP-MS分析中的質(zhì)譜干擾，不同氣體模式之間的快速切換及的BOOST技術(shù)，即便應(yīng)對(duì)要求苛刻的樣品依然可以輕松獲得出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和業(yè)內(nèi)的分析速度。
PlasmaQuant MS降低氬氣消耗50%。等離子體聚焦技術(shù)在確保極低氧化物產(chǎn)率（<2% CeO+ /Ce+ ）的前提下，增強(qiáng)等離子體基體耐受性的同時(shí)，等離子氣消耗量小于9L/min。檢測(cè)器在脈沖計(jì)數(shù)模式下可高達(dá)11個(gè)數(shù)量級(jí)（0.1-1010 cps）的動(dòng)態(tài)線性范圍，在樣品分析時(shí)實(shí)現(xiàn)了從超低痕量到高濃度的快速準(zhǔn)確的多元素分析，并極大的延長(zhǎng)檢測(cè)器的使用壽命。
從廢水到有機(jī)樣品直接進(jìn)樣分析，PlasmaQuant MS在不斷提升分析性能的前提下將ICP-MS的分析成本降至業(yè)內(nèi)低。的等離子體聚焦技術(shù)使PlasmaQuant MS等離子體異乎尋常的強(qiáng)勁穩(wěn)健，輕松應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜基體。并獲得了極低水平的氧化物(<2% CeO+/Ce+)和雙電荷(<2% Ba++/Ba+)；等離子體射頻功率實(shí)現(xiàn)業(yè)內(nèi)最寬范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)（300-1600 W），可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用需求選擇優(yōu)化等離子條件。的等離子體聚焦技術(shù)使PlasmaQuant MS在正常操作條件下，等離子氣消耗量小于9L/min。
等離子體超乎尋常的強(qiáng)勁穩(wěn)健
低的分析成本
接口錐后配備不少于2個(gè)獨(dú)立工作的提取透鏡
離子源：射頻頻率≤27.12 MHz，功率范圍300~1600W，射頻線圈水冷設(shè)計(jì)
集成式碰撞反應(yīng)池iCRC—的干擾消除系統(tǒng)使用簡(jiǎn)單的氣體—氦氣和氫氣，即可高效、簡(jiǎn)潔、快速的消除ICP-MS 分析中遇到的質(zhì)譜干擾?？梢愿鶕?jù)樣品基體的不同選擇使用兩種氣體以提高分析數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。的BOOST技術(shù)可在使用碰撞反應(yīng)氣的模式下保證待測(cè)分析元素的靈敏度和檢出限不受影響。
高效去除質(zhì)譜干擾確保分析結(jié)果的準(zhǔn)確性
不同模式下快速切換，確保分析效率
針對(duì)復(fù)雜基體的樣品具有出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性
高通量快速分析的保證– ReflexION
PlasmaQuant MS的高靈敏度不僅獲得了業(yè)內(nèi)最佳檢出限，并在保證分析結(jié)果的精密度和重復(fù)性的前提下顯著縮短分析時(shí)間。PlasmaQuant MS高靈敏度的獲得主要得益于的ReflexION 離子光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)離子束真正意義上的90°反射偏轉(zhuǎn)和3D聚焦。ReflexION 離子光學(xué)系統(tǒng)通過拋物面靜電場(chǎng)對(duì)離子束進(jìn)行90°反射偏轉(zhuǎn)的同時(shí)，不同大小和動(dòng)能的待分析離子被聚焦在四極桿質(zhì)量分析器入口。確保在全質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)待分析離子最高的靈敏度及信號(hào)值。光子、中性粒子及顆粒穿過拋物面靜電場(chǎng)后被真空系統(tǒng)移出質(zhì)譜儀。
離子束被反射并在四極桿質(zhì)量分析器入口處聚焦獲得業(yè)內(nèi)最高分析靈敏度
光子、中性粒子及顆粒未進(jìn)入四級(jí)桿，獲得極低的背景噪聲
離子束全三維控制，優(yōu)化簡(jiǎn)單
高效靈活的高解析四極桿 – HD Quadrupole
PlasmaQuant MS可準(zhǔn)確定量所有已知穩(wěn)定存在的同位素；真正意義上的高達(dá)3 MHz的高解析驅(qū)動(dòng)頻率，使得PlasmaQuant MS 獲得了理想的質(zhì)譜分辨能力和業(yè)內(nèi)最佳豐度靈敏度（2.3x10-8 @ m-1 238U）；業(yè)內(nèi)的質(zhì)譜掃描速度5115 amu/s及50μs的最小駐留時(shí)間。為同位素比值分析、激光燒蝕聯(lián)用技術(shù)及單納米顆粒物分析提供了優(yōu)化的硬件保證。
得益于最佳豐度靈敏度，PlasmaQuant MS獲得業(yè)內(nèi)的同為素比值分析能力
超快質(zhì)譜掃描速度，PlasmaQuant MS獲得直徑小于10nm的納米顆粒物分析能力
低于0.5cps的背景噪聲，PlasmaQuant MS獲得業(yè)內(nèi)最佳檢出限
四極桿驅(qū)動(dòng)頻率：3.0 MHz
靈活、精確的全數(shù)字檢測(cè)器– ADD11
全數(shù)字脈沖檢測(cè)器在脈沖計(jì)數(shù)模式下即可達(dá)到11個(gè)數(shù)量級(jí)(0.1–1010cps)的動(dòng)態(tài)線性范圍。一次進(jìn)樣從痕量超痕量一直到主量的多元素分析均可獲得快速準(zhǔn)確的定量分析結(jié)果，并且全數(shù)字脈沖檢測(cè)器在業(yè)內(nèi)具有最長(zhǎng)使用壽命。
11個(gè)數(shù)量級(jí)的動(dòng)態(tài)線性范圍，實(shí)現(xiàn)了真正意義上的寬范圍多元素分析
無需頻繁的交叉校正，無需繁瑣準(zhǔn)備，簡(jiǎn)單易用
長(zhǎng)壽命檢測(cè)器：分析NIST 1643e標(biāo)樣中23種元素，按照每天300個(gè)樣品，每個(gè)月分析20天計(jì)算，壽命應(yīng)不小于10年
等離子體改性附件– Nitrox
全面提升石油化工品等有機(jī)樣品直接進(jìn)樣分析中Se、As等元素的準(zhǔn)確定量分析性能。Nitrox是一款全自動(dòng)化、MFC控制的等離子體在線加氧加氮裝置。氮?dú)馔ǔ１挥脕砀纳频入x子體中待分析離子的電離度、抑制多原子干擾離子的產(chǎn)生和基體效應(yīng)，進(jìn)而改善ICP-MS分析的整體性能。在線加氧可應(yīng)用在有機(jī)樣品直接進(jìn)樣分析領(lǐng)域，可顯著縮短樣品前處理的時(shí)間。
高TDS樣品的高效率分析–Aerosol dilution
高TDS樣品分析時(shí)，Aerosol dilution氣溶膠稀釋功能可避免樣品復(fù)雜的稀釋處理，直接分析例如海水等復(fù)雜樣品。
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