簡(jiǎn) 介: 原位高溫衍射反應(yīng)裝置(HT-XRD-1000)是一款專門為高溫條件下探測(cè)樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺(tái),該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔(高溫爐體)、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場(chǎng)加熱方式,確保樣品處于恒溫點(diǎn),使用溫度1000℃,常用使用溫度范圍:RT-800℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究,是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。 主要特點(diǎn): 1. 本設(shè)備系統(tǒng)主要由主體腔室(反應(yīng)腔)、冷卻循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)(帶程序控制)四個(gè)主體部分組成。 2. Ø 該裝置采用環(huán)場(chǎng)加熱方式對(duì)樣品中心處進(jìn)行加熱,保證樣品處的溫度均勻; 3. Ø 溫度控制范圍:使用溫度1000℃,常用溫度RT-800℃,溫度控制精度:±1℃; 4. Ø樣品臺(tái)采用陶瓷加工而成,熱電偶采用k 型鎧裝熱電偶,置于樣品正下方; 5. Ø 裝置采用kapton 膜作為X 射線光窗,能夠承受不高于2 個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境; 6. Ø X 射線采集角度為:5<2θ<160°; 7. 配備水冷系統(tǒng),保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于60℃,保證實(shí)驗(yàn)的安全;