介紹
薄膜測量系統(tǒng)TF-168采用非接觸式光學方式,測量多層光學薄膜/鍍層的厚度、折射率系數(shù)和吸收系數(shù)。
應用
光學器件上的介電鍍層,鍍膜的光學濾光片,晶圓上的半導體,液晶器件,多層聚合物薄膜
薄膜層如:SiO2, CaF2, MgF2, Photoresist, Polysilicon, Amorphous Silicon, SiNx, TiO2, Sol-Gel, Polyimide, Polymer
基底材料如:Silicon, Germanium, GaAs, ZnS, ZnSe, Acrylic, Sapphire, Glasses, Polycarbonate, Polymer, Quartz.
規(guī)格參數(shù)
測量范圍 | 20 nm-50 µm (只測厚), 100 nm - 10 µm (厚度 及 n & k) |
可測層數(shù) | 多達4層 |
光斑大小 | 0.8 mm - 4 mm可調(diào) |
樣品大小 | >=1 mm |
厚度準確度 | ± 1 nm 或 ±0.5% |
重復精度 | 0.1 nm |
平臺大小 | 7" x 7" (178 mm x 178 mm) |
系統(tǒng)大小 | 8" x 9.5" x 14" |
系統(tǒng)包含如下:
*鹵鎢燈(360-2500 nm),SMA905接口
*USB微型光譜儀(350-1000 nm) ,SMA905接口
*硅片反射標準樣品
特點:
*桌面式集成一體化系統(tǒng)
*鹵鎢燈、USB微型光譜儀可通過光纖單獨接出來使用,用于其他光譜實驗
*基底折射率和吸收系數(shù)
*薄膜厚度測量,平均值和方差
*薄膜折射率和吸收系數(shù)
*自由選擇計算的波長范圍
*自由選擇預詁厚度范圍以減少計算時間
*方便從包含的數(shù)據(jù)庫中選擇薄膜和基底材料
*客戶自定義材料的選擇和導入