詳細摘要： 制藥無殘留GMP均質(zhì)機在納米均質(zhì)機運作的過程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài),研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊,以起到磨...