可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀 返回列表頁

可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀

采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS），適用于在線監(jiān)測脫硝工藝出口氨氣濃度。系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)，有效降低氣體冷凝損耗，可實時準確地反應(yīng)逃逸氨的變化，為環(huán)保監(jiān)測提供可靠數(shù)據(jù)支持。

產(chǎn)品特點：

采用TDLAS技術(shù)，被測氣體不受背景氣體交叉干擾

超低量程測量，采用多次反射氣室，檢出下限低

氣體流路全程高溫伴熱，預防銨鹽結(jié)晶，并采用低吸附材料和處理工藝，有效避免NH3冷凝損耗

抽取式測量，不受煙道內(nèi)粉塵、溫度、壓力波動的影響

不受現(xiàn)場安裝條件限制，應(yīng)用廣泛

產(chǎn)品參數(shù)：

測量組分    NH3

測量原理    TDLAS

測量范圍    0~10ppm，0~20ppm

精度            ±2%F.S.

重復性    ±1%F.S.

分辨率    0.1ppm

響應(yīng)時間    T90≤15S

工作參數(shù)

環(huán)境溫度    (-20～ +50)℃

工作電源    220V AC，50Hz，800W

吹掃氣源    (0.4~0.8)MPa壓縮空氣

接口信號

通訊            RS485、RS232

輸出模式    4路4-20mA輸出

                   8路繼電器輸出

*具體參數(shù)請以規(guī)格書為準，如需獲取更多技術(shù)信息

可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀 獲中國環(huán)境保護產(chǎn)品認證（CCEP）