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Suflux® 納米均質(zhì)分散機 (HPH:High Pressure Homogenizer)

技術(shù)與應用 For產(chǎn)品

Autoclave 微射流高壓納米分散機

常規(guī) (動態(tài)類型) 技術(shù)

一般用于牛奶和乳制品的閥門調(diào)節(jié)( 1 或 2 級)

Suflux® ’ 的納米分散技術(shù) (靜態(tài)類型)

新技術(shù)的出現(xiàn)要求先進的材料處理，尤其是化學，電子材料。

樣品的供給和排出可以通過柱塞來完成，從左到右依次移動。

柱塞的移動導致相互作用使分散單元內(nèi)壓力升高。

當高壓流體樣品通過相互作用的分散單元時，其速度突然增加到跨音速流體（馬赫數(shù) ）并引起剪切機和空穴作為分散的動力源。

• Mach 1 = 331m/sec

Interaction Chamber（分散單元） (Suflux®’ 的關(guān)鍵技術(shù))

剪切力

金剛石分散單元

Z 型 (從 75 µm, 單孔 ) Y 型 (從 75 µm), (單孔或者多孔)

Interaction Chamber（分散單元）Z型和Y型

Autoclave 微射流高壓納米分散機

類型：Z 和 Y: (Z (單孔)用于實驗室與生產(chǎn), Y (多孔) 用于生產(chǎn))

速度達 400 m/s

剪切率達 107s-1

整批混合條件不變

可用和負擔得起的可擴展性

NLM100: 75µm Z 型和 100µm Z 型

NH500: 100µm Z 型和 200µm Z 型, NH4000: 400µm Z 型 (過濾) -> 100µm Y 型(multi slots-多槽)各種技術(shù)的剪切率

Suflux®

剪切率:

通過供給分散單元和狹窄間隙之間的差動速度引起的。

速度:

在分散單元內(nèi)約有 400~ 500m/s

碰撞:

受到碰撞的力量

應用：

癌癥藥物，細胞，蛋白質(zhì)等乳液，奶油，海藻萃取等

二氧化硅，蠟，環(huán)氧，丙烯酸，纖維素，硅酮乳液，潤滑劑，TiO2油墨，顏料涂料，CNT，碳，BT ,石墨烯，氧化鋁

設(shè)備名稱 攪拌機 納米分散機

Microscope 分離 穩(wěn)定性好 穩(wěn)定性好 穩(wěn)定性好 分離

Suflux

® 納米分散機 NLM100

納米均質(zhì)分散機 NLM 100

- 適用于實驗室研究

- 良好的重現(xiàn)性

- 樣品量：少于100ml

- 適合臺式作業(yè)

- 平穩(wěn)，安靜可靠的操作- 保持液體和漿料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性為終工藝.

® 納米均質(zhì)分散機 NH500

- 高壓均質(zhì)分散機(NH-500) :

它與預處理設(shè)備混合分散后影響液體或漿料的物理穩(wěn)定性.

(基于d99的大小從幾百到30um)

反沖洗系統(tǒng) 出料前冷卻裝置 鋼化玻璃保護外殼 可通過油壓調(diào)節(jié)調(diào)整壓力