高真空退火爐

設(shè)備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線(xiàn)反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

2. 紅外線(xiàn)燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線(xiàn)反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線(xiàn)型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線(xiàn)型反射器和適用于片狀樣品。

設(shè)備特點(diǎn)

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度高精度控制

通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線(xiàn)型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快。

可選配置：

（1）進(jìn)口干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）進(jìn)口全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測(cè)量范圍5X10-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度；

（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。

更多應(yīng)用：

樣品腔內(nèi)徑：≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm