上海依肯機械設備有限公司
主營產(chǎn)品: 乳化機,高剪切乳化機,實驗室乳化機,膠體磨,均質(zhì)機,高剪切分散機,實驗室均質(zhì)機,實驗室分散機,實驗室膠體磨,乳化泵 |
上海依肯機械設備有限公司
主營產(chǎn)品: 乳化機,高剪切乳化機,實驗室乳化機,膠體磨,均質(zhì)機,高剪切分散機,實驗室均質(zhì)機,實驗室分散機,實驗室膠體磨,乳化泵 |
參考價 | 面議 |
變速方式 | 變頻變速 | 產(chǎn)地 | 進口 |
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產(chǎn)品大小 | 中型 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
分散機類型 | 實驗室分散機,調(diào)速分散機,高速分散機,剪切分散機,乳化分散機,升降分散機,防爆分散機,其他 | 分散盤型式 | 平盤鋸齒式 |
結構類型 | 立式 | 升降形式 | 液壓 |
速度范圍 | 200rpm以上 | 速度類別 | 無級變速 |
物料類型 | 液-液,固-液 | 自動化程度 | 半自動 |
液相剝離高純度少層石墨烯分散機,物理法剝離石墨片層分散機,循環(huán)式機械法剝離石墨分散機,德國循環(huán)式石墨烯分散機,高純度大片層石墨烯分散機,立式分體易裝卸可降溫研磨分散機,ikn中試型新材料研發(fā)型研磨分散機
石墨烯制備和應用上的難點普遍體現(xiàn)在“難分散、易團聚”問題上,因此想要充分發(fā)揮石墨烯功能,首要解決的就是石墨烯的分散問題。
在普通的高速攪拌機、高速分散機、膠體磨等的制備下易使原料細化不充分,同時由于機械作用力小,易使其團聚,而影響后續(xù)使用及產(chǎn)品質(zhì)量。上海依肯將分散機與膠體磨進行改進,研發(fā)出了一款研磨分散機,在設備工作腔體*級高精度研磨頭處能夠充分細化物料粒度,同時細化后的物料緊接著進入第二級定轉子間隙極為狹小的分散頭中進行高速剪切分散離心運動,從而得到穩(wěn)定性高的分散系,除了設備結構上的改進以外,更是在設備的轉速上有了一個質(zhì)的飛躍,打破國內(nèi)3000轉的極限,直接將轉速提升至14000轉的超高轉速,作用效果更好。 詳詢上海依肯 工程師 林萬翠
目前在石墨烯的制備上主要有超聲波分散方法,機械剝離法,球磨法等。超聲波分散方法制備超出的石墨烯質(zhì)量好,純度高,但是效率太低,球磨法制備的石墨烯容易破壞石墨烯的片層結構,機械剝離的石墨烯質(zhì)量很高,剝離出來的一般是幾百個納米、或者微米的石墨烯片層。但是這種方法存在一些缺點如所獲得的產(chǎn)物尺寸不易控制,無法可靠地制備出長度足夠的石墨烯,一般用于石墨烯的性質(zhì)研究,產(chǎn)量非常非常低,轉移也很具有挑戰(zhàn),因此不能滿足工業(yè)化需求。上海依肯經(jīng)過數(shù)年的總結研發(fā)出的CMSD高剪切研磨分散設備保留了機械剝離法制備石墨烯的優(yōu)點,同時在一定程度上改進了其產(chǎn)量低、產(chǎn)物尺寸不易控制的缺點。CMSD的基本原理是用過設備轉動時產(chǎn)生的高剪切作用力來克服石墨層間的范德華力,從而使石墨烯得到分離,zui終得到高質(zhì)量,粒徑分布范圍窄,均勻分散的微納米級石墨烯懸濁液。
采用機械剝離法制備,石墨烯片層結構完整,碳含量高,缺陷少,導電性好。
上海IKN在石墨烯領域的應用成功,為石墨烯行業(yè)的發(fā)展提供了設備支持,得到了充分的認可。上海依肯研發(fā)的改良版膠體磨能夠利用高剪切力將大量顆粒細化夾套、使團聚體解聚,同時具有*的分散作用力,能夠將石墨烯在細化的同時分散勻化,是目前的分散石墨烯的設備,寧波、四川、湖南、上海、北京、安徽,江陰、深圳等眾多石墨烯上中下游企業(yè)以及研究機構均和我司有合作,客戶反饋制備出來的石墨烯既保留了大的比表面積,同時*的縮小了粒徑分布,大大增加了漿料的穩(wěn)定性,在制備石墨烯復合材料上也有著顯著優(yōu)勢。
ikn中試型新材料研發(fā)型研磨分散機是經(jīng)過依肯眾多實驗并總結后全新研發(fā)出的一類設備,是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎上進行改進,添加了分散機的分散盤,使其在膠體磨研磨轉子的高速(zui高轉速21000轉)研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散,同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下,物料還同時承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力,因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定、精細的高品質(zhì)產(chǎn)品!
ikn研磨分散機CMSD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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