詳細介紹
脫模劑乳化機,脫模劑研磨分散機,脫模劑研磨分散機,脫模劑乳化機,脫模劑分散機,研磨分散機,高剪切乳化機,乳化機設(shè)備廠家
【脫模劑的簡介】
脫模劑是一種介于模具和成品之間的功能性物質(zhì)。脫模劑有耐化學(xué)性,在與不同樹脂的化學(xué)成份(特別是苯乙烯和胺類)接觸時不被溶解。脫模劑還具有耐熱及應(yīng)力性能,不易分解或磨損;脫模劑粘合到模具上而不轉(zhuǎn)移到被加工的制件上,不妨礙噴漆或其他二次加工操作。由于注塑、擠出、壓延、模壓、層壓等工藝的迅速發(fā)展,脫模劑的用量也大幅度地提高。
【脫模劑的成分】
以水基型脫模劑為例,脫模劑的基本組分:石蠟5~20份,硬脂酸5~8份,植物油5~10份,助乳化劑5~8份,氫氧化鉀計算量,其他輔料適量,尼泊金乙酯適量,去離子水至100份。要想生產(chǎn)出高品質(zhì)的脫模劑產(chǎn)品,zui重要的是要乳化效果要好,要將物料充分細化,然后形成均勻穩(wěn)定的乳液,上海IKN研磨分散機可以先將物料充分細化,然后進行均質(zhì)乳化。根據(jù)客戶反映脫模劑研磨的越細物料越稀,在依肯現(xiàn)場客戶實驗,研磨后的狀態(tài)比研磨前的狀態(tài)更加細膩、產(chǎn)品更稀。
【脫模劑乳化機,脫模劑研磨分散機的簡介】
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
【CMD2000系列的結(jié)構(gòu)】
研磨式分散機是由錐體磨+分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
【CMD2000系列研磨分散機的特點】
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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