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SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機

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更新時間:2024-05-22 14:31:56瀏覽次數(shù):202

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產(chǎn)品簡介

SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機是一款針對半導體行業(yè)設(shè)計的MWPLASMA處理及性能檢測整體解決方案的設(shè)備,是實現(xiàn)清潔、活化、除膠、刻蝕功效的理想選擇

詳細介紹

SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機是一款針對半導體行業(yè)設(shè)計的MW PLASMA處理及性能檢測整體解決方案的設(shè)備,是實現(xiàn)清潔、活化、除膠、刻蝕功效的理想選擇。
工作原理

微波等離子清洗是用等離子體通過化學或物理作用對工件表面進行分子水平處理,去除沾污,改善表面性能的工藝過程。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝。當腔內(nèi)壓力為動態(tài)平衡時,利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場將氬氣、氧氣、 氮氣、氫氣等工藝氣體電離,生成等離子體,活性等離子體對被清洗物進行物理轟擊與化學氧化還原反應。
微波等離子清洗機的結(jié)構(gòu)主要分為四大組成部分:控制系統(tǒng)、真空腔體、工藝氣體系統(tǒng)、金屬空心導管。



行業(yè)專用方案

半導體行業(yè)應用
芯片粘接前處理:去除材料表面污染物,增加表面潤濕性能,提升膠體流動性,保證與其他材料的結(jié)合能?。
塑封前處理:去除材料表面污染物,使芯片表面與塑封材料結(jié)合牢固,減少分層與氣泡等不良的產(chǎn)?。

金屬鍵合前處理:去除金屬焊盤上的有機污染物,提高焊接工藝的強度和可靠性。

光刻膠去除:去除殘留的光刻膠及其他有機物,活化和粗化晶圓表?,提?晶圓表?潤濕性能。



設(shè)備視頻
產(chǎn)品優(yōu)勢

兼容性強

軌道間距可調(diào),兼容性強,兼容產(chǎn)品長80-280mm×寬25-90mm
軌道間距可調(diào),兼容性強,兼容產(chǎn)品長80-280mm×寬25-90mm
01

故障率低

等離子體不帶電,不會對精密電路造成損害
等離子體不帶電,不會對精密電路造成損害
02

提升產(chǎn)能

四道同時上料,提升產(chǎn)能
四道同時上料,提升產(chǎn)能
03

清洗效果好

電離度高,等離子密度大,清洗效果較好
電離度高,等離子密度大,清洗效果較好
04

安全性高

高壓源和發(fā)生器互相隔離,安全性高
高壓源和發(fā)生器互相隔離,安全性高
05

采?磁約束的?式

采用磁約束的方式,微波結(jié)和磁路可以兼容
采用磁約束的方式,微波結(jié)和磁路可以兼容
06
應用案例
微波等離子在半導體行業(yè)應用
半導體微波等離子處理機的優(yōu)勢及效果
產(chǎn)品推薦

SPMV-100H腔體式微波真空等離子清洗機

自由基分子的等離子體無偏壓,不會對產(chǎn)品有電性損壞,去膠速率高

SPV-12Z在線片式真空等離子清洗機

半導體行業(yè)專用RF在線片式真空清洗機,PLASMA處理在線片式等離子處理系統(tǒng)

SPV-100真空等離子清洗機

超低處理溫度45℃,不造成熱影響,確保穩(wěn)定的處理效果

設(shè)備參數(shù)
設(shè)備尺寸 2308*1360*2064mm(長*寬*高)
微波電源 雙微波電源2000W
容積 約24L
清洗產(chǎn)品范圍 80-280mm*25-90mm(長*寬)
料盒尺寸范圍 180-290mm*28-93mm*200mm(長*寬*高)
真空泵 干泵
氣路配置 標配氧氣、氬氣兩路工藝氣體(可定制CF4氣體)
系統(tǒng)控制 工控系統(tǒng)

配件類型

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