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東莞市晟鼎精密儀器有限公司>>微波等離子清洗機(jī)>>ICP干法等離子去膠機(jī)ST-3100

ICP干法等離子去膠機(jī)ST-3100

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更新時間:2024-05-22 14:24:28瀏覽次數(shù):105

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產(chǎn)品簡介

ST-3100等離子去膠機(jī)采用高密度低損傷等離子源設(shè)計(jì),采用獨(dú)立腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)均勻的流暢分布,去膠均勻性表現(xiàn)優(yōu)異

詳細(xì)介紹

ST-3100等離子去膠機(jī)采用高密度低損傷等離子源設(shè)計(jì),采用獨(dú)立腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)均勻的流暢分布,去膠均勻性表現(xiàn)優(yōu)異。

應(yīng)用范圍

離子注入后光阻去除

表面殘留物清除

刻蝕后表面清潔

聚合物去除

BAW/SAW工藝中的光阻去除


產(chǎn)品優(yōu)勢
暫無數(shù)據(jù)
應(yīng)用案例
微波等離子在半導(dǎo)體去膠的應(yīng)用
產(chǎn)品推薦

SPE-201P等離子去膠機(jī)

自由基分子的等離子體無偏壓,不會對產(chǎn)品有電性損壞,去膠速率快

RIE Plasma等離子去膠機(jī)

可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

實(shí)驗(yàn)型微波等離子去膠機(jī)

可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔

設(shè)備整體參數(shù)
型號 ST3100      ST3200
PLASMA電源 RF          RF
尺寸(L*W*H) 1300*1190*1847mm   1300*1650*1850mm
適用范圍 4-8寸       4-8寸
單次處理片數(shù) 1           2

配件類型

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