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真空氣相沉積爐

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更新時間:2023-12-25 12:19:12瀏覽次數(shù):118

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產(chǎn)品簡介

設(shè)備用途本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚?

詳細(xì)介紹


  1. 設(shè)備用途

本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚怼?


  1. 設(shè)備特點

1.雙層SUS304爐體結(jié)構(gòu),中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環(huán)境的影響;
2.采用的保溫材料及隔熱結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱系數(shù)低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節(jié)約能耗;
3.能夠準(zhǔn)確控制氣體流量和壓力,通過特殊的導(dǎo)氣結(jié)構(gòu)和裝置,大大提高產(chǎn)品的合格率,降低沉積時間;
4.通過特殊的過濾裝置,使其熱解過程的碳粉幾乎過濾,不進(jìn)入真空機(jī)組,大大延長了真空機(jī)組的使用壽命;
5.人性化配置,既可以手動操作,也可以實現(xiàn)一鍵智能操作;
6.型式多樣化,立式上開門、立式底升式、臥式側(cè)開門,任意選擇;
7.本產(chǎn)品接受非標(biāo)定制。


  1. 設(shè)備參數(shù)

型號

工作區(qū)尺寸
D×H

溫度

溫度均勻性

冷態(tài)極限真空度
Pa

壓升率
Pa/h

加熱功率
Kw

HVCVD-2030

Φ200×300

1500

±5

50

3

25

HVCVD-2540

Φ250×400

1500

±5

50

3

40

HVCVD-3050

Φ300×500

1500

±5

50

3

55

注:以上技術(shù)參數(shù)可根據(jù)工藝進(jìn)行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。




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