高壓中子非彈性散射裝置

簡(jiǎn) 介：

HTPP-NS是一款高溫高壓合成反應(yīng)池，該反應(yīng)池側(cè)重于材料在高溫高壓下的物相結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變研究，可配合中子衍射等技術(shù)方法實(shí)現(xiàn)材料在各類壓力、溫度條件下的實(shí)時(shí)探測(cè)，同時(shí)也可用于特殊材料在高溫高壓條件下的合成。

主要特點(diǎn)：

1.適用于高溫高壓條件下樣品合成實(shí)驗(yàn)；

2.可進(jìn)行原位中子散射測(cè)試；

3.適用溫度范圍：RT-1200℃；

4.適用壓力：0-8GPa。