詳細(xì)介紹
大型雙面研磨機(jī)的主要用途:
本機(jī)主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、鈮酸鋰、砷化鉀、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。
大型雙面研磨機(jī)主要特點(diǎn):
1、采用交流變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng),軟啟動(dòng)、軟停止,平穩(wěn)可靠。
2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn),太陽輪下有墊片可調(diào)整位置,有效利用了齒圈和太陽輪。
3、上盤單獨(dú)設(shè)置了緩降氣缸,不但有效防止了薄脆工件的破碎,而且還可獨(dú)立進(jìn)行壓力控制。
4、通過使用電子預(yù)置計(jì)數(shù)器,研磨的圈數(shù)、要求可準(zhǔn)確控制。
5、可以采用修盤方式修整研磨盤。
6、可與ALC(頻率監(jiān)控儀)連接。
大型雙面研磨機(jī)技術(shù)參數(shù):
1、研磨盤直徑(MM):φ849×φ274×30
2、理想研磨直徑(MM):φ270
3、加工件平面平行度:0.2μ(φ10)
4、游輪參數(shù):英制DP12,Z=150
5、游輪數(shù)量:5個(gè)
6、最小研磨厚度:0.15mm(φ10)
7、主機(jī)功率:5.5KW(研磨)7.5KW(拋光)
8、下研磨盤轉(zhuǎn)速(rpm):0~60
9、砂泵功率:370W
10、流砂形式:循環(huán)或點(diǎn)滴
11、設(shè)備外形尺寸(MM):1250×1540×2780
12、重量(KG):~3200
本機(jī)主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、鈮酸鋰、砷化鉀、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。
大型雙面研磨機(jī)主要特點(diǎn):
1、采用交流變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng),軟啟動(dòng)、軟停止,平穩(wěn)可靠。
2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn),太陽輪下有墊片可調(diào)整位置,有效利用了齒圈和太陽輪。
3、上盤單獨(dú)設(shè)置了緩降氣缸,不但有效防止了薄脆工件的破碎,而且還可獨(dú)立進(jìn)行壓力控制。
4、通過使用電子預(yù)置計(jì)數(shù)器,研磨的圈數(shù)、要求可準(zhǔn)確控制。
5、可以采用修盤方式修整研磨盤。
6、可與ALC(頻率監(jiān)控儀)連接。
大型雙面研磨機(jī)技術(shù)參數(shù):
1、研磨盤直徑(MM):φ849×φ274×30
2、理想研磨直徑(MM):φ270
3、加工件平面平行度:0.2μ(φ10)
4、游輪參數(shù):英制DP12,Z=150
5、游輪數(shù)量:5個(gè)
6、最小研磨厚度:0.15mm(φ10)
7、主機(jī)功率:5.5KW(研磨)7.5KW(拋光)
8、下研磨盤轉(zhuǎn)速(rpm):0~60
9、砂泵功率:370W
10、流砂形式:循環(huán)或點(diǎn)滴
11、設(shè)備外形尺寸(MM):1250×1540×2780
12、重量(KG):~3200