三對甲苯基膦高速研磨分散機 返回列表頁

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【三對甲苯基膦介紹】

三對甲苯基膦是一種化學物質(zhì)，分子式是C21H21P。

外觀：白色或淡黃色固體

中文別名：對甲基三苯基膦;三(對甲苯基)膦;三對苯甲基膦

英文別名：phosphine, tris(4-methylphenyl)-; Tris(4-methylphenyl)phosphine; tris(4-methylphenyl)phosphane

分子式：C21H21P

分子量：304.3652

InChI：InChI=1/C21H21P/c1-16-4-10-19(11-5-16)22(20-12-6-17(2)7-13-20)21-14-8-18(3)9-15-21/h4-15H,1-3H3

沸點：399.8°C at 760 mmHg

閃點：206.3°C

蒸汽壓：3.07E-06mmHg at 25°C

【CMD系列納米研磨分散機的成功應(yīng)用案例】

1、硅油乳化可獲得200nm的粒徑，體系均勻穩(wěn)定，泛藍光；

2、納米白炭黑分散乳化，沉淀法白炭黑可達200nm粒徑，氣相法白炭黑可達50nm；

3、各類納米金屬氧化物的分散乳化，可還原物料原始粒徑；

4、新材料應(yīng)用方面，碳納米管漿料、石墨烯漿料的分散，特別是石墨烯高速剪切十分適合分散剝離；

5、醫(yī)藥方面，疫苗乳化、納米醫(yī)藥混懸液分散、口服液分散乳化等；

采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切研磨分散機的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了水平。

 IKN研磨分散機，是IKN公司研發(fā)出來的新品，是由膠體磨和分散機組合而成的。將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。物料既可以有效分散，又可以防止團聚。

三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

【結(jié)構(gòu)設(shè)計】

研磨分散機是由膠體磨、乳化分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

     第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。

[CMD2000系列研磨分散機的特點]

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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