創(chuàng)新改良型膠體磨,改性膠體磨,新型高速剪切膠體磨,大型膠體磨,中試膠體磨,改良型膠體磨,創(chuàng)新膠體磨,研磨分散膠體磨,研磨分散機
創(chuàng)新改良型膠體磨,改性膠體磨,新型高速剪切膠體磨,大型膠體磨,中試膠體磨,改良型膠體磨,創(chuàng)新膠體磨,研磨分散膠體磨,研磨分散機,上海IKN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。改良型膠體磨,這種*的設計,放眼世界,獨上海IKN一家,更多關(guān)于改良型膠體磨的信息,請接洽上依肯!
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改良型膠體磨,研磨分散機,簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機,合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能,并且減少了膠體磨和分散機串連后的,時間差因素。從成本上來講,原先兩臺設備的價格,現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成,性價比更高。
CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMD2000系列創(chuàng)新改良型膠體磨,改性膠體磨,新型高速剪切膠體磨,大型膠體磨,中試膠體磨,改良型膠體磨,創(chuàng)新膠體磨,研磨分散膠體磨,研磨分散機,研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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