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石墨烯單層剝離分散設(shè)備

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產(chǎn)品型號(hào)CMSD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

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更新時(shí)間:2017-03-17 13:57:21瀏覽次數(shù):776次

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利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

 

在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

 

石墨烯的生產(chǎn)工藝 

制備石墨烯的方法有很多。但歸納起來兩大類,一類是從大往小做,也叫自上而下法。例如,以石墨為原料,通過膠帶粘貼、氧化還原、液相插層和機(jī)械剝離等手段破壞石墨晶體的長(zhǎng)程有序堆疊,得到單層或少數(shù)幾層的石墨烯。另一類是從小往大長(zhǎng),也叫自下而上法。例如,以含碳小分子等為前驅(qū)體,采用化學(xué)氣相沉積、外延生長(zhǎng)和有機(jī)合成等方法將碳素組裝成石墨烯。


 

當(dāng)前相對(duì)成熟的技術(shù)分別是,以氧化還原和液相插層為代表的大規(guī)模粉體,和以化學(xué)氣相沉積為代表的大面積薄膜。兩者生產(chǎn)工藝*不同,而產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域也基本不重疊。前者通常以重量來計(jì),可達(dá)公斤至噸級(jí),產(chǎn)品剝離效率高、比表面積大、成本低,但缺陷多、可控性差,一般用作鋰電池和超級(jí)電容器電極導(dǎo)電填料,或用于塑料、油墨、涂料、金屬和陶瓷等多種基體的增強(qiáng)或功能填料,形成納米復(fù)合材料。而后者通常以面積來計(jì)量,依托其高透光率和面向電導(dǎo)率,通常作為透明電極用于觸摸屏和光伏等領(lǐng)域。

 

但是。當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn),一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)?;a(chǎn),二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得*個(gè)已不是問題,因?yàn)橐延卸鄠€(gè)十噸乃至百噸級(jí)產(chǎn)線投產(chǎn),規(guī)?;此埔延卸?。事實(shí)真是如此嗎?除了產(chǎn)能,我認(rèn)為更重要的是品質(zhì),因?yàn)樵系钠焚|(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用,純度是否足夠高?批次穩(wěn)定性如何?成本是否還有壓縮空間?生產(chǎn)過程可否更綠色?技術(shù)的進(jìn)步永無止境,可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

 

對(duì)于第二點(diǎn),我想大家談的比較多了,這是產(chǎn)品出路和價(jià)值體現(xiàn)的問題,非常關(guān)鍵,但也很難。作為一種新材料,石墨烯的*年屬于應(yīng)用發(fā)散期,即大家認(rèn)為石墨烯幾乎是*的,然后在不同領(lǐng)域嘗試應(yīng)用,是在做加法。目前,我們已步入應(yīng)用集中期,要開始做減法了因?yàn)榇蟛糠譂撛趹?yīng)用在實(shí)踐中被證實(shí)并無實(shí)用價(jià)值,或是技術(shù)上,或是商業(yè)上。在這個(gè)階段,產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動(dòng)非常必要。我們必須面向用戶進(jìn)行二次開發(fā),去解決分散和成型等共性技術(shù)難題,讓石墨烯更接“地氣”。zui終交給用戶的,不僅是高品質(zhì)的材料,還有配套的應(yīng)用解決方案,也就是solution。

 

 

有可能你會(huì)問  一般國(guó)內(nèi)做碳管或者石墨烯會(huì)用砂磨機(jī)或者球磨機(jī)   超聲波分散機(jī)等等?  球磨機(jī)或者砂磨機(jī)他們偏重研磨炸   會(huì)破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機(jī)偏重  分散剝離  。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn),只是作為一種輔助分散。

 

研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
   
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    納米研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)*的高速研磨分散技術(shù),通過超高
轉(zhuǎn)速(zui高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

技術(shù)及價(jià)格咨詢請(qǐng)來電:  ,公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn),跟常州、無錫、長(zhǎng)春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來電!

    

石墨烯剝離設(shè)備  石墨烯分散設(shè)備 

是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

石墨烯剝離設(shè)備參數(shù)和型號(hào)

 

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

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