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氫氧化物,納米氫氧化鎂分散機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)CMD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

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更新時(shí)間:2017-03-16 11:18:27瀏覽次數(shù):806次

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在幾乎不影響使用強(qiáng)度的情況下顯著提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能,還可根據(jù)客戶需要,在納米氫氧化鎂生成同時(shí)采用適當(dāng)?shù)脑桓男苑椒?,為阻燃?xì)溲趸V。

                 
納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質(zhì)當(dāng)中(如橡膠),從而改性物料的特性,zui大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級(jí)的粉末分散到液體介質(zhì)當(dāng)中容易出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象,一般的分散設(shè)備無(wú)法解決這一難點(diǎn),而IKN研磨式分散機(jī)可以很好的應(yīng)對(duì)團(tuán)聚的現(xiàn)象。

IKN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī),是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成,形成一體化的設(shè)備,先研磨后分散,避免物料團(tuán)聚。


CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

氫氧化物,納米氫氧化鎂分散機(jī),氫氧化鎂漿料高速分散機(jī),氫氧化鎂研磨分散機(jī)
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。


第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。,氫氧化鎂漿料高速分散機(jī),氫氧化鎂研磨分散機(jī)

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