軟膏劑真空乳化機(jī)，真空乳化機(jī)，膏霜真空乳化機(jī)軟膏劑軟膏劑系指藥物與適宜基質(zhì)制成的一種涂布于皮膚、粘膜或創(chuàng)面的半固體外用制劑。用乳劑型基質(zhì)制備的軟膏劑又稱為乳膏劑；含有大量藥物粉末（ 25%-75% ）的稱為糊劑。軟膏劑主要起保護(hù)、潤滑和局部治療作用，某些藥物透皮吸收后，亦能產(chǎn)生全身治療作用，糊劑主要起局部保護(hù)作用。
軟膏劑真空乳化機(jī)，真空乳化機(jī)，膏霜真空乳化機(jī)軟膏劑系指藥物與適宜基質(zhì)制成的一種涂布于皮膚、粘膜或創(chuàng)面的半固體外用制劑。用乳劑型基質(zhì)制備的軟膏劑又稱為乳膏劑；含有大量藥物粉末（ 25%-75% ）的稱為糊劑。軟膏劑主要起保護(hù)、潤滑和局部治療作用，某些藥物透皮吸收后，亦能產(chǎn)生全身治療作用，糊劑主要起局部保護(hù)作用。
軟膏劑乳化機(jī) 軟膏劑中的微粒由于受重力作用，靜置后會自然沉降，其沉降速度服從Stokes定律：
按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比，與分散介質(zhì)的粘度成反比?；鞈椅⒘３两邓俣扔螅鞈覄┑膭恿W(xué)穩(wěn)定性就愈小。
軟膏劑真空乳化機(jī)，真空乳化機(jī)，膏霜真空乳化機(jī)
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
超高速分散均質(zhì)乳化機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.
，真空乳化機(jī)，膏霜真空乳化機(jī)具體咨詢： 陶國偉， 廣州辦：
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