IKA 中試型高剪切乳化分散機 返回列表頁

PROCESS-PILOT是zui通用的和可靠性高的在線實驗室分散機。它是專為固－液體混合、均質(zhì)、乳化、懸浮和濕磨設(shè)計的。PROCESS-PILOT 2000/4適用于廣泛的應(yīng)用，特別是在化學(xué)、化妝品、醫(yī)藥、塑料、顏料和食品行業(yè)。它設(shè)計*，具有*的技術(shù)和八個可互換的模塊。它可以定制，以滿足特定的程序要求。重要的工藝要求，如圓周速度、工具和混合室形狀相同的IKA 2000 在線生產(chǎn)機器：UTL、DBI、DR、DRS、CMS、MHD、MK和MKO。因此，PROCESS-PILOT從制劑研發(fā)到批量生產(chǎn)都用同樣的方法來確保可靠的擴大規(guī)模。PROCESS-PILOT確保了壓力/真空以及在高溫或研磨材料下作業(yè)。

基本在線機器配備了單級的分散模塊ULTRA-TURRAX® UTL。它是于批量應(yīng)用，可以生產(chǎn)由粗到細(xì)的分散體。與傳統(tǒng)的攪拌器相比，攪拌的時間減少了50%。

根據(jù)應(yīng)用，基本單位可用不同的工作模塊迅速地修改。

模塊DBI是一臺兩*剪切混合和分散機。它于循環(huán)回路的批處理操作，直接安裝在容器的底部。分散機DBI能吸入、泵出和CIP條件下自動清洗。

模塊DISPAX-REACTOR® DR將LABOR-PILOT轉(zhuǎn)換成一個多級的高容量分散機，以達(dá)到超細(xì)粒徑減小。只用一次，模塊DR通常能達(dá)到一個極窄粒度分布的精細(xì)分散。它也保證了*的同質(zhì)性。這是乳液或懸浮液的*穩(wěn)定性的一個重要前提條件。

模塊CMS用于固/液體混合，非常適合用粉末濃縮液體在循環(huán)過程中。它在粉末入口處產(chǎn)生真空，從而直接吸粉到機器的混合腔體。它實現(xiàn)了快速、無塵無塊納入和節(jié)能均勻混合。

模塊MHD用于全連續(xù)混合粉末與液體。通過使用這個模塊，固體和液體的混合條件應(yīng)該是體積或重量分析控制。根據(jù)產(chǎn)品的特性，通過一次性分散可實現(xiàn)粘度50 Pas或固體含量高達(dá)80%。

模塊膠體磨MK和圓錐體磨MKO用于硬質(zhì)和顆粒狀原料的濕或細(xì)磨，或用于zui細(xì)乳液的生產(chǎn)，以及提高成品分散的質(zhì)量。MK模塊包含在其表面上不同定向流道的兩個錐體。該錐體能互相轉(zhuǎn)移到zui小距離，從而產(chǎn)生不同的摩擦力以及流量。通過調(diào)整研磨距離，可控制實現(xiàn)的顆粒大小。MKO模塊的工作原理和MK模塊一樣，而區(qū)別在于它的錐體區(qū)域是涂有耐磨碳化鎢。這致使擴大的摩擦面能在減少流量時生產(chǎn)更精細(xì)的懸浮液。

實驗分散機PROCESS-PILOT 2000/4可升級到帶有LABOR-PILOT-CONTROLLER的高速分散機。

由于應(yīng)用的密封技術(shù)和用于粉體摻入濃縮過程－DBI和CMS兩個可選交換模塊，PROCESS-PILOT 2000/4不同于交替的LABOR-PILOT 2000/4機。

PROCESS-PILOT的優(yōu)點：

• 靈活性和易用性：一臺機器適用于許多應(yīng)用和多種工序。
• 與2000系列的在線機一起能在保持產(chǎn)品質(zhì)量的同時從實驗到生產(chǎn) 平穩(wěn)過渡進程。
• 簡便和快捷交換模塊，以及轉(zhuǎn)換到完整的生產(chǎn)設(shè)備。
• 能在高壓/真空下操作。
• 能在高溫下作業(yè)。
• 低維護機械密封。
• 適合干運行。
• 有防爆保護。

 

	Flow rate (max.) (l/h)	Motor power (kW)	Tip speed (m/s)	參數(shù)列表	圖紙
PROCESS-PILOT 2000/4	350	2.2	41