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日立離子研磨儀器 IM4000PLUS

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更新時(shí)間:2022-12-26 10:44:21瀏覽次數(shù):333

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高通量的斷面研磨配備斷面研磨能力達(dá)到500µm/h*2以上的高效率離子槍

詳細(xì)介紹




高通量的斷面研磨

配備斷面研磨能力達(dá)到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出斷面樣品。

*2
在加速電壓6 kV下,將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時(shí)時(shí)的深度

斷面研磨

  • 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構(gòu)成的復(fù)合材料,也可以制備出平滑的斷面樣品
  • 優(yōu)化加工條件,減輕損傷
  • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

斷面研磨的主要用途

  • 制備金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等各種樣品的斷面
  • 制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面
  • 制備評(píng)價(jià)、觀察和分析所用的沉積層界面以及結(jié)晶狀態(tài)的斷面


斷面研磨加工原理圖









平面研磨(Flat Milling®

  • 均勻加工成直徑約為5mm的范圍
  • 可運(yùn)用于符合其目的的廣泛領(lǐng)域
  • 可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品
  • 可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(dòng)(±60度~±90度的翻轉(zhuǎn))2種加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

  • 去除機(jī)械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變
  • 去除樣品的表層
  • 消除FIB加工的損傷


平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖











與日立SEM的樣品結(jié)合

  • 樣品無(wú)需從樣品臺(tái)取下,就可直接在SEM上進(jìn)行觀察。
  • 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的樣品分別設(shè)置截面、平面研磨桿,因此,在SEM上觀察之后,可根據(jù)需要進(jìn)行再加工。


 


冷卻溫度調(diào)節(jié)功能*1


附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS

該功能可有效防止加工過(guò)程中,由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升,所導(dǎo)致樣品的溶解和變形。對(duì)于過(guò)度冷卻后會(huì)產(chǎn)生開裂的樣品,通過(guò)冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過(guò)度冷卻而產(chǎn)生開裂。

*1
此調(diào)節(jié)功能不是IM4000PLUS的標(biāo)配功能,而是配有冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS功能。









樣品:鉛焊料


常溫研磨


冷卻研磨


 






項(xiàng)目 內(nèi)容
IM4000PLUS IM4000PLUS
斷面研磨桿 平面研磨桿
使用氣體 Ar(氬)氣
加速電壓 0 ~ 6 kV
研磨速度(Si材料) 500 µm/hr*1 以上 -
樣品尺寸 20(W)× 12(D)× 7(H)mm Φ50 × 25(H) mm
離子束
間歇照射功能
標(biāo)配
尺寸  616(W)× 705(D)× 312(H)mm
重量  機(jī)體48 kg+回轉(zhuǎn)泵28 kg
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
冷卻溫度調(diào)節(jié)功能 通過(guò)液氮間接冷卻樣品、溫度設(shè)定范圍:0°C ~ -100°C
選項(xiàng)
空氣隔離
樣品夾持器
僅支持?jǐn)嗝嫜心A持器 -
FP版斷面研磨夾持器 100 µm/rotate*2 -
用于加工監(jiān)控的顯微鏡 倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD)

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