雙靶磁控濺射鍍膜儀圖片

簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。與同類設備相比，這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，切體積小便于操作，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。