新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
應(yīng)用場(chǎng)合:
☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏;
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn);
☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;
☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料;
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
☆汽車、家電表面拋光處理;
☆光電產(chǎn)品;
☆其他高科技精微產(chǎn)品;
光電行業(yè)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。