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LPCVD

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱北京環(huán)創(chuàng)科學儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號LPCVD
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/11/2 8:49:18
  • 訪問次數(shù)180
產(chǎn)品標簽:

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北京環(huán)創(chuàng)科學儀器有限公司是一家專注于環(huán)境試驗設備、實驗室儀器、超聲波清洗設備及電子工藝設備的設計、制造和銷售為一體的個性化企業(yè)。公司管理層由長期從事環(huán)境試驗設備及設計工藝、生產(chǎn)管理和市場營銷的高級專業(yè)人員組成,是一只經(jīng)驗豐富,勇于創(chuàng)新,精誠協(xié)作的團隊;致力于為客戶提供創(chuàng)新設計、環(huán)保、安全、節(jié)能、可靠品質(zhì)的解決方案。

公司主要銷售:環(huán)境試驗儀器設備、理化室實驗儀器設備、超聲波清洗設備、恒溫老化設備、工業(yè)熱工設備、工業(yè)冷水設備、計量檢定裝置;并具有設計制造各種非標準、大型、超大型試驗設備的技術生產(chǎn)能力。

公司具備有與航空、航天、兵工、船舶、通信、機械、石油、機車車輛、電工電子、高等院校、制藥、合成材料、化工等領域長期合作的經(jīng)驗;熟悉這些領域里所有的試驗方法,以及相關的國家標準和行業(yè)標準;承接對設備系統(tǒng)的設計、制造及售后全套的優(yōu)質(zhì)服務,保證了產(chǎn)品經(jīng)久耐用、安全可靠、高效的精良品質(zhì)。

公司本著“以質(zhì)量贏得市場,以高效服務贏得口碑”的經(jīng)營理念,嚴守自己的質(zhì)量保證體系與售后服務體系。因此,公司在國內(nèi)建立了完善的銷售服務網(wǎng)絡;除北京外,還在石家莊、濟南、西安、武漢、蘇州、成都、重慶、深圳等大城市設立了辦事處與客戶攜手共創(chuàng)的產(chǎn)品和貢獻的服務。

公司傳承和弘揚“科學、誠信、創(chuàng)新”的精神,堅持為客戶貢獻高品質(zhì)產(chǎn)品,高效率服務!我們實事求是,讓“科學、現(xiàn)代、環(huán)保、高效”的環(huán)創(chuàng)與您一道共創(chuàng)輝煌!

綜合穩(wěn)定性試驗箱
詳細說明生產(chǎn)的系列熱工設備:【LPCVD產(chǎn)品簡介】LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜
LPCVD 產(chǎn)品信息
詳細說明

生產(chǎn)的系列熱工設備:

【LPCVD產(chǎn)品簡介】

  LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大,故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率,并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應用于半導體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

【產(chǎn) 品 特 點】

◆對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應室壓力實現(xiàn)自動控制。                                    

◆采用進口壓力控制系統(tǒng),閉環(huán)控制,穩(wěn)定性強。 

◆采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門,確保氣路氣密性。   

◆具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。

◆具有良好的人機界面,靈活的工藝性能。

◆采用工控機技術,具有可靠地恒壓調(diào)整控制功能。

【主要技術指標】

●適用硅片尺寸: 4~6"                                

●工作溫度及精度: 350 ~ 1000℃±1℃                    

●恒溫區(qū)長度:700mm  (可根據(jù)用戶需要設計)                      

●升溫速率:0 ~ 15℃/分鐘  可調(diào)             

●系統(tǒng)極限真空度:0.8 Pa                             

●工作壓力范圍:30 ~ 200Pa 可調(diào)         

●淀積膜種類:Si3N4  SiO

●淀積膜均勻性:片內(nèi)  <±3%;  片間  <±3%;  批間  <±4%

●淀積速率:200 ~300 ?/min (與淀積材料和工藝有關)

●操作方式: 手動、自動

●滿足半導體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝

關鍵詞:不銹鋼管件
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