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CVD-DZVK系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng)

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱濟南魯熱儀器有限公司
品牌
型號
所在地濟南市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2023/10/21 18:11:45
訪問次數(shù)120

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公司介紹主營產(chǎn)品

濟南魯熱儀器是由多位具備實驗儀器行業(yè)十多年工作經(jīng)驗的行業(yè)精英組建而成，公司致力于實驗儀器的研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售、售后一體化服務。公司專注于電加熱類儀器設(shè)備的研發(fā)設(shè)計，包含馬弗爐、箱式爐、高溫馬弗爐、陶瓷纖維馬弗爐、坩堝馬弗爐、真空氣氛箱式爐、真空氣氛管式爐、CVD設(shè)備、PECVD設(shè)備、升降式馬弗爐、電熱板、COD恒溫加熱器、消解儀等儀器設(shè)備。公司銷售分析類儀器，包含全自動凱氏定氮儀、脂肪測定儀、配套消解儀等公司承攬非標產(chǎn)品定制服務、產(chǎn)品升級改造、產(chǎn)品委托維修保養(yǎng)等服務。公司產(chǎn)品涵蓋電加熱類儀器、分析類儀器、樣品前處理類儀器。公司秉承“扎根齊魯、”的企業(yè)理念，專注產(chǎn)品質(zhì)量、真誠服務客戶！

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管式馬弗爐

產(chǎn)品簡介在線詢價

CVD系統(tǒng)應用：CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學反應形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。CVD系統(tǒng)分類：CVD技術(shù)常常通過反應類型或者壓力來分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空C......

CVD-DZVK系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品名稱：CVD-DZVK系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號： CVD-12DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-14DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-17DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V12DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V14DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V17DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)

CVD系統(tǒng)應用：

CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學反應形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。

CVD系統(tǒng)分類：

CVD技術(shù)常常通過反應類型或者壓力來分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等離子體增強CVD(PECVD)，高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后，還有金屬有機物CVD(MOCVD)，根據(jù)金屬源的自特性來保證它的分類，這些金屬的典型狀態(tài)是液態(tài)，在導入容器之前必須先將它氣化。

CVD系統(tǒng)組成：

CVD系統(tǒng)=管式爐+真空抽氣系統(tǒng)+多路供氣系統(tǒng)（或者液態(tài)蒸發(fā)系統(tǒng)）

單溫區(qū)CVD系統(tǒng)配置選擇：

配置一：管式真空氣氛爐：

SK2-12DZ 管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50—200mm

SK2-14DZ 管式真空氣氛爐，1400℃，管徑：50—100mm

SK2-15DZ 管式真空氣氛爐，1500℃，管徑：50—100mm

SK2-16DZ 管式真空氣氛爐，1600℃，管徑：50—100mm

SK2-17DZ 管式真空氣氛爐，1700℃，管徑：50—100mm

SK2-18DZ 管式真空氣氛爐，1800℃，管徑：50—100mm

VSK2-12DZ 立式管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50—200mm

VSK2-15DZ 立式管式真空氣氛爐，1500℃，管徑：50—100mm

VSK2-17DZ 立式管式真空氣氛爐，1700℃，管徑：50—100mm

配置二：真空抽氣系統(tǒng)：
可以選配：LVSE-0.1；LVSE-0.1A；HVSE

LVSE-0.1低真空控制系統(tǒng)
產(chǎn)品應用：

該系統(tǒng)為一組低真空機組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于1Pa一下；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵組成

技術(shù)參數(shù)：

1、 真空泵：FX-16

2、 真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、 真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、 高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管：KF25*1000mm

6、 真空計VRD-I:規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

7、 電源功率：220v/50Hz；0.8kw

8、 出氣進氣口規(guī)格：KF25

9、 連接口：2個KF25接口

LVSE-0.1A可調(diào)低真空控制系統(tǒng)

產(chǎn)品應用：
該系統(tǒng)為一組低真空恒壓機組設(shè)備，控制設(shè)備真空壓力恒定在1.0KPa—100.0KPa之間；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵、變速器、電動調(diào)節(jié)閥門等組成；

技術(shù)參數(shù)：

1、真空泵：FX-16

2、真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、真空波紋管：KF25*1000mm

6、真空計：VRD-I:

7、規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

8、電源功率：220v/50Hz；0.8kw

9、調(diào)速變頻器：0.75kw

10、壓強控制范圍：1.0KPa—100KPa

11、壓強控制精度：±1KPa

12、出氣進氣口規(guī)格：KF25

13、連接口：2個KF25接口

HVSE高真空控制系統(tǒng):

產(chǎn)品應用：
該系統(tǒng)為一組復合分子泵、前級抽氣泵機組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于8*10^-4Pa；配合真空管式爐、箱式真空氣氛爐等高真空設(shè)備使用；廣泛應用于表面分析、半導體設(shè)備、等離子體技術(shù)、電真空器件的制造及真空技術(shù)研究

設(shè)備組成：設(shè)備由復合分子泵、前級抽氣泵、隔斷放氣閥、前級管路、分子泵電源、高真空檢測系統(tǒng)（復合真空計）、控制電源組成

產(chǎn)品特點：

預抽氣旁路設(shè)計，前級抽氣不經(jīng)過分子泵避免預抽氣體中顆粒進入分子泵

技術(shù)參數(shù)：

1、 前級真空泵：TRP-24

2、 真空泵抽氣速度：4L/s

3、 分子泵：FJ-620

4、 抽氣速率：600L/s

5、 分子泵極限壓強：6*10^-6Pa

6、 建議啟動壓強：＜100Pa

7、 排氣口法蘭：KF40

8、 進氣口法蘭：DN160LF