簡 介: 原位高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置(EC-MSHP)是一款適用于在特殊環(huán)境下進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng)測試的原位裝置;能夠提供真實(shí)的水熱環(huán)境,高壓環(huán)境,攪拌環(huán)境以及光電催化環(huán)境。攪拌速率以及加熱溫度可控可調(diào)節(jié),可通過計(jì)算機(jī)及軟件界面實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)與控制。廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料及相關(guān)領(lǐng)域,特別適合于電化學(xué)及反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究。本裝置屬研究型,可依據(jù)需要進(jìn)行功能擴(kuò)展。 主要特點(diǎn): 1. 高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置適用于液體環(huán)境的高溫光催化電化學(xué)測試,提供真實(shí)原位攪拌環(huán)境,攪拌速率可適當(dāng)調(diào)節(jié); 2. 裝置整體外形尺寸:約Φ110*214mm;池體容積約:30mL; 3. 電化學(xué)池類型:配備三電極體系(工作電極、參比電極、對(duì)電極),池體上蓋有氣路; 4. 電化學(xué)池主體材質(zhì):PEEK; 5. 光學(xué)窗口:1 個(gè)光學(xué)窗口,窗口分內(nèi)外兩層;內(nèi)層石英窗口Φ20*1mm 設(shè)置在釜體上,通光直徑15mm;外層石英窗口Φ20*4mm(承壓)設(shè)置在釜體套上,通光直徑15mm; 6. 溫度范圍:RT~100℃;溫度控制精度:±1℃; 7. 攪拌支持:電化學(xué)池腔體內(nèi)可分別放置磁子,配合底部磁力攪拌部件,實(shí)現(xiàn)攪拌,攪拌速率0-1200rpm 可調(diào); 8. 耐壓:耐壓<=5MPa; 9. 計(jì)算機(jī)控制及顯示:USB/網(wǎng)絡(luò)通訊接口;界面操作,控制攪拌速度。 10. 該裝置由高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置由高壓光電催化反應(yīng)釜,攪拌加熱底座,加熱控制調(diào)節(jié)箱,壓力控制箱,冷卻水循環(huán)機(jī)及計(jì)算機(jī)軟件控制系統(tǒng)等組成。