簡介 原位多用變溫光譜池(DM-LQ-H150-XAFS)是一款測試液體光譜學的原位裝置。主體配備加熱功能(無加壓功能),能在溶劑沸點以下溫度正常工作。配備X射線窗口和可見光窗口,為液體的X射線光譜學和可見光譜學研究提供了可能。 主要特點 1. 該裝置能夠實現(xiàn)液體在加熱過程中的原位同步輻射X射線吸收譜測試(透射模式); 2. 裝置溫度使用范圍:室溫-120℃(使用溫度需要在實測液體的沸點溫度以下操作),溫度控制精度±1℃; 3. 可進行液體樣品的同步輻射X射線吸收譜測試(透射模式); 4. 液體的樣品厚度可根據(jù)實驗要求來進行調節(jié); 5. 裝置整體采用氟膠圈進行,保證裝置整體密封性良好; 6. 裝置主要包含加熱腔體一個、溫度控制器一臺、兩個X射線光學窗口、兩個可見光窗口;