鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 雙靶磁控濺射儀 |
濺射電源 | 安裝有兩個(gè)電源 直流(DC)電源:500W |
真空腔體 | 真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作 觀察窗口: 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易 |
磁控濺射頭 | 儀器中安裝有 2 個(gè)磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水 對(duì)靶材降溫 兩個(gè)濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材 |
載樣臺(tái) | 載樣臺(tái)尺寸:140mm dia.(*大可放置 4"的基底) 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 載樣臺(tái)*高可加熱溫度為 500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C |
氣體流量控制器 | 儀器內(nèi)部安裝有 2 個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為:0-200sccm |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S |
水冷系統(tǒng) | 16L/min. |
電壓 | 220V 50HZ |