整體概述
EDI設(shè)備又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過(guò)陽(yáng)、陰離子膜對(duì)陽(yáng)、陰離子的選擇透過(guò)作用以及離子交換樹(shù)脂對(duì)水中離子的交換作用，在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過(guò)水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生，因此EDI制水過(guò)程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水，它具有技術(shù)*、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域，是水處理技術(shù)的綠色革命。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出電阻率高達(dá)16-18MΩ·CM的超純水。
產(chǎn)品分類
根據(jù)用水要求不同，可定制多種模塊組合成套設(shè)備
迪奧EDI連續(xù)電除鹽系統(tǒng)工藝特點(diǎn)
EDI工藝采用一種離子選擇性膜和離子交換樹(shù)脂夾在直流電壓下兩個(gè)電極之間，在兩極間的直流電源電場(chǎng)從RO預(yù)處理過(guò)的水中去除離子，EDI工藝系統(tǒng)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合樹(shù)脂床來(lái)制造去離子水，與離子交換混床大的不同是，EDI的去離子過(guò)程可以連續(xù)進(jìn)行，自動(dòng)化程度高，且不需要酸堿再生。EDI相比傳統(tǒng)混床的*之處：
1、保留了電滲析連續(xù)脫鹽和離子交換深度脫鹽的優(yōu)點(diǎn)；
2、離子交換樹(shù)脂用量少，與普通離子交換樹(shù)脂柱相比，節(jié)約樹(shù)脂95%以上；
3、離子交換樹(shù)脂不需酸堿化學(xué)再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，大大降低勞動(dòng)強(qiáng)度；
4、無(wú)廢酸廢堿液排放，是清潔生產(chǎn)技術(shù)，綠色環(huán)保產(chǎn)品；
5、過(guò)程易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，EDI與反滲透（RO）、超濾（UF）等水處理技術(shù)相結(jié)合，能形成完善的高純水生產(chǎn)線；
6、占地面積小，而且不需要像離子交換床那樣，一套在用，一套再生的重復(fù)設(shè)置；
性能特點(diǎn)
常見(jiàn)應(yīng)用場(chǎng)合
1、電子芯片高純水；
2、電力高壓鍋爐補(bǔ)給水；
3、化工、冶金、電鍍等行業(yè)純水、高純水；
4、生物技術(shù)、實(shí)驗(yàn)技術(shù)----純水、高純水。
EDI膜堆進(jìn)水條件
| 項(xiàng)目 | 單位 | 水質(zhì)指標(biāo) |
| 電導(dǎo)率 | us/cm | 優(yōu)≤10 大≤30 |
| pH |
| 6~9 |
| 溫度 | ℃ | 5~35 不二25 |
| 硬度（以CaCO3計(jì)） | mg/L | ≤ 0.5 |
| TEA | mg/L | ≤ 20 |
| 余氯 | mg/L | ≤ 0.01 |
| 可反應(yīng)硅 | mg/L | ≤ 0.5 |
| TOC | mg/L | ≤ 0.1 |
| 鐵、錳、H2S | mg/L | ≤ 0.01 |
EDI電除鹽設(shè)備操作注意事項(xiàng)
1、在運(yùn)行中，如果將較差的給水引進(jìn)組件，或者電源不足，就會(huì)增加維修工作量，給水主要引起污染的是有機(jī)物，硬度和鐵。
2、給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側(cè)結(jié)垢，而使純水水質(zhì)降低。給水硬度，溶解的二氧化碳和高 PH會(huì)加速結(jié)垢，可以用適當(dāng)?shù)乃崛芤呵逑次酃浮?/p>
3、給水中的有機(jī)物污染，會(huì)在離子交換樹(shù)脂和離子交換膜表面形成薄膜，因而將嚴(yán)重影響離子遷移速 率，因此影響純水水質(zhì)；當(dāng)發(fā)生此現(xiàn)象時(shí)，純水室需用適當(dāng)?shù)那逑磩┣逑础?/p>
4、如果EDI組件在無(wú)電或給電不足的情況下運(yùn)行，淡水室內(nèi)離子處于離子飽和狀態(tài)，純水的水質(zhì)會(huì)降低。為了再生離子交換樹(shù)脂，將水流通過(guò)組件，并慢慢增加電源供應(yīng)電壓，使被吸附的離子遷移出系統(tǒng)而 對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行再生。樹(shù)脂再生時(shí)，組件應(yīng)在較高電流和較低水流量的條件下運(yùn)行。
5、如果電源沒(méi)有過(guò)流保護(hù)，注意不要超過(guò)電源的供電容量。
6、如果組件外部需要清洗，請(qǐng)僅使用溫和的清潔劑水溶液，不可使用溶劑。為了防止觸電，在清洗之前，要確定電源已斷開(kāi)。
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