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URE-2000/35 型紫外單面光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/23 20:54:26
  • 訪問(wèn)次數(shù)1042
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
URE-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動(dòng)化程度高)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動(dòng)找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350W 進(jìn)口(德國(guó))直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非??煽浚詣?dòng)化程度很高,操作十分方便。
URE-2000/35 型紫外單面光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

URE-2000/35 型紫外單面光刻機(jī)

1.技術(shù)特征——非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動(dòng)化程度高)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動(dòng)找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350W 進(jìn)口(德國(guó))直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非??煽?,自動(dòng)化程度很高,操作十分方便。

2.技術(shù)參數(shù)

。曝光面積:4 英寸

。曝光波長(zhǎng):365nm

。分辨力:0.8μm

。對(duì)準(zhǔn)精度:±0. 8μm

。掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)范圍:X:15mm;Y:15mm

。掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸

。樣片尺寸:直徑 ±10mm-- ±100mm(各種不規(guī)則片) 厚度 0.1mm--5mm(可擴(kuò)展為 15mm)

。曝光方式:定時(shí)(倒計(jì)時(shí)方式)和定劑量18

。具備真空接觸曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能

。照明不均勻性: 3%(±100mm 范圍)

。雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡:既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn),也可通過(guò) CCD+顯示器對(duì)準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍

物鏡三對(duì):4 倍、10 倍、20 倍

目鏡三對(duì):10 倍、16 倍、20 倍

。調(diào)平接觸壓力通過(guò)傳感器保證重復(fù)

。數(shù)字設(shè)定對(duì)準(zhǔn)間隙和曝光間隙

。具備壓印模塊接口,也具備接近模塊接口

掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程:

X: ± 5mm; Y: ± 5mm; Thelta: ±

。焦厚:400μm(SU8 膠,用戶(hù)提供檢測(cè)條件)

。光源平行性:3.5 º

。曝光能量密度:>20mW/cm2,照明面溫度<35 º

。單層曝光一鍵完成

。采用球氣浮自動(dòng)找平

。汞燈功率:350W(直流,進(jìn)口汞燈)

3.外形尺寸:1200mm(長(zhǎng))x900mm(寬) x1750mm(高)

4.配置

(1)曝光頭

。冷光橢球鏡

。350W 進(jìn)口直流高壓汞燈(進(jìn)口)

。XYZ 汞燈調(diào)節(jié)臺(tái)

。冷卻風(fēng)扇

。光學(xué)系統(tǒng):固定光欄、可變光欄、快門(mén)、準(zhǔn)直鏡鏡 1、準(zhǔn)直鏡鏡 2、蠅眼透鏡組(79 個(gè)透鏡)、i 線濾光片、場(chǎng)鏡1、冷光反射鏡 1、反射鏡 2

(2)對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)

。掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)臺(tái)

。掩模樣片相對(duì)運(yùn)動(dòng)臺(tái)19

。轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)

。樣片調(diào)平機(jī)構(gòu),自動(dòng)完成

?;槔缴舷聶C(jī)構(gòu)

。樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu),電機(jī)自動(dòng)調(diào)

。承片臺(tái) 4 個(gè):?15mm 、2 英寸、3 英寸、4 英寸(可按用戶(hù)要求增減)

。掩模夾 4 個(gè):3 英寸、4 英寸、5 英寸(可按用戶(hù)要求增減)

(3)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡

。光源(配備品 2 只)、 電源

。雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡主體

。目鏡 3 對(duì)(10 倍、16 倍、20 倍,共 6 個(gè))

。物鏡 3 對(duì)(4 倍、10 倍、20 倍,共 6 個(gè))

。CCD 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),21 寸液晶顯示器

(4)電控系統(tǒng)

。汞燈觸發(fā)電源(350W 直流汞燈)

。單片機(jī)控制系統(tǒng)

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(5)氣動(dòng)系統(tǒng)

。氣缸、電磁閥、減壓閥、氣動(dòng)開(kāi)關(guān)等

。電磁閥驅(qū)動(dòng)

。氣動(dòng)儀表

(6)其他附件

。真空泵一臺(tái)

??諌簷C(jī)一臺(tái)

。管道

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