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Sawatec Leaflet_SMD-200 顯影機(jī)

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/15 20:26:52
訪問次數(shù)308

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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電子顯微鏡

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Sawatec Leaflet_SMD-200 顯影機(jī)，用于清洗和顯影8英寸(200mm)以下的晶圓或6英寸(150x150mm)以下的基板，該儀器可作為臺(tái)式或移動(dòng)式機(jī)柜。

Sawatec Leaflet_SMD-200 顯影機(jī) 產(chǎn)品信息

Sawatec Leaflet_SMD-200 顯影機(jī):

外露光刻膠的研制是光刻膠研制過程中最關(guān)鍵的步驟之一，因此對研制過程及其參數(shù)(溫度、研制時(shí)間等)的選擇要特別注意。在噴淋顯影過程中，對每個(gè)基板分別進(jìn)行單獨(dú)顯影，并在暴露區(qū)域連續(xù)噴淋新顯影劑或蝕刻劑，以防止顯影劑飽和。

SAWATEC開發(fā)人員可用于水坑或噴霧開發(fā)，在此過程中，根據(jù)應(yīng)用程序的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)標(biāo)準(zhǔn)選擇流程。與水坑開發(fā)相比，噴霧開發(fā)的優(yōu)點(diǎn)是可以釋放非常小的精細(xì)結(jié)構(gòu)。水坑法的優(yōu)點(diǎn)是，當(dāng)襯底有較深的結(jié)構(gòu)時(shí)，顯著較少的顯影液需要和較好的結(jié)果。

SMD系列用于清洗和顯影8英寸(200mm)以下的晶圓或6英寸(150x150mm)以下的基板。過程——室工作Ø212毫米。

由SAWATEC公司開發(fā)的SMD具有良好的工藝性能、低的化學(xué)消耗和可靠的重復(fù)性，甚至具有較厚的光刻膠層。由于操作簡便，易于清洗，這些儀器是理想的適合于實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)，研究所和試點(diǎn)項(xiàng)目。

該儀器可作為臺(tái)式或移動(dòng)式機(jī)柜。

功能(基本配置)

FEATURES (BASIC CONFIGURATION)

Up to 50 programmes with 24 segments each can be programmed
Quick start function for repeat processes
User-friendly process configuration with touch screen panel
Process parameter: speed, acceleration, process time, speed of the spray arm, developing spray time
Electrical driven spray arm, with dynamic or static function
Developer line and media tank (2 litre) for one developer included
Nozzle for DI-water-rinse and N2 drying on the spray arm
Nozzles in the process bowl for the backside rinse
Control elements for dosing of the compressed air and vacuum
Rotational direction can be selected (CW, CCW)
Manual loading and unloading of the substrates

Mechanical substrate fixation

Acoustic signal when the process has finished

PERFORMANCE DATA

§ Speed range: 0 to 3’000rpm +/-1rpm 1)

Speed acceleration: 0 to 3’000rpm in 0.3 seconds 1)
Process time up to 2376 seconds
Developer spray time 99 seconds/segment
Speed of the spray arm 10 to 200mm/seconds
Rinse and N2 drying 99 seconds/segment
Heatable process hood up to 50°C
Spray nozzle made of PEEK 0,8mm

ADDITIONAL FUNCTIONS (OPTIONS)

Additional developer lines (up to 4 developer lines possible)
Start/stop foot switch for ease of operation (cable length 1.8m)
Separation unit for media exhaust (tank and laboratory equipment)
Developer tank heating system (2 litre)
Spray nozzle made of PEEK (0,3 / 0,5mm)
Nozzle for puddle developing