氣相氧化鋁高剪切分散機(jī),納米氧化鋁高剪切分散機(jī),氧化鋁高剪切均質(zhì)分散機(jī),節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機(jī)
氣相法氧化鋁產(chǎn)品具有許多特殊的物理化學(xué)特性,例如,納米級(jí)顆粒,高純度,低含水量,這些特性都成為當(dāng)今高質(zhì)量熒光燈涂層解決方案中至關(guān)重要的一部分。氧化鋁反射透過(guò)熒光粉層的紫外光,使其繼續(xù)激發(fā)熒光粉,提高了熒光燈的發(fā)光效率,第二,氧化鋁作為有效的汞擴(kuò)散阻擋層,可將汞的用量降到低限度,能夠延長(zhǎng)燈的使用壽命,第三,氧化鋁作為粘結(jié)劑能夠提高熒光粉和玻璃燈管之間的粘結(jié)強(qiáng)度,使熒光粉不脫落。
氧化鋁分散機(jī),隔膜電池漿料分散機(jī),比比普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
二、氧化鋁的分散問(wèn)題
氧化鋁分散機(jī),隔膜電池漿料分散機(jī),比比普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
按照一定的配方,先預(yù)混,然后研磨分散
氣相氧化鋁高剪切分散機(jī)
機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。
膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
氧化鋁研磨分散機(jī),隔膜漿料研磨分散機(jī)
氫氧化鋁水性漿料分散機(jī),是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤(pán),先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)在于,粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時(shí)分散十分重要,而砂磨機(jī)難以分散。
KZD2000系列研磨分散設(shè)備是ZKE(太倉(cāng))公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三層變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
六、節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機(jī)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
KZSD2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
KZSD2000/5 | 1000 | 10500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
KZSD2000/10 | 2000 | 7200 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
KZSD2000/20 | 5000 | 2850 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
KZSD2000/30 | 8000 | 1420 | 44 | 55 | DN150/DN125 |