半導(dǎo)體材料是指在室溫下絕緣體與導(dǎo)體之間具有導(dǎo)電性的材料，包括半導(dǎo)體制造材料和半導(dǎo)體密封測(cè)試材料。半導(dǎo)體制造材料包括襯底材料(主要是硅片)、電子氣體、光掩模、拋光液、光刻膠和輔助化學(xué)品、高純度靶材等。

　　硅片是半導(dǎo)體工業(yè)的上游原材料。下游產(chǎn)業(yè)可將硅片制成各種半導(dǎo)體器件，用于后續(xù)加工，如集成電路、二極管、功率器件等。據(jù)SEMI統(tǒng)計(jì)，2020年，全球晶圓制造材料市場(chǎng)達(dá)到349億美元，其中硅晶圓的銷(xiāo)售額占比更高，達(dá)到36.64%，是半導(dǎo)體制造的主要原材料。

　　純水是半導(dǎo)體生產(chǎn)離不開(kāi)的必要元素。傳統(tǒng)純水制備方法主要有蒸餾法和離子交換法。蒸餾設(shè)備要求嚴(yán)格，產(chǎn)量低，能耗高。離子交換法再生失效的離子交換樹(shù)脂需要大量的酸堿溶液和大量的清洗水，勞動(dòng)強(qiáng)度高。早期用于醫(yī)藥、化工、發(fā)電等行業(yè)的純水水質(zhì)要求不是很高，但隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)純水的水質(zhì)要求越來(lái)越高。

　　傳統(tǒng)方法不適合單獨(dú)用于生產(chǎn)高純度超純水。20世紀(jì)60年代以來(lái)，隨著膜技術(shù)的發(fā)展，出現(xiàn)了微濾、超濾、反滲透和電滲析等新的水處理技術(shù)。目前，RO+混床系統(tǒng)已經(jīng)取代了傳統(tǒng)的離子交換系統(tǒng)，但反滲透對(duì)原水中溶解氣體和一些弱電解質(zhì)等雜質(zhì)的去除效果較差，混床再生會(huì)消耗酸堿溶液，產(chǎn)生一定量的廢水。EDI工藝可連續(xù)再生無(wú)酸堿溶液的離子交換樹(shù)脂，減少環(huán)境污染。設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，高效節(jié)能，勞動(dòng)強(qiáng)度低，出水純度高。因此，EDI超純水設(shè)備越來(lái)越受到人們的重視。