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SK-7500-GAS-Y
固定污染源
氣體在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
SK-7500-GAS-Y 固定污染源氣體在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)是東日瀛能科技針對(duì)環(huán)境中固定污染源的煙氣、廢氣等氣體進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)的一種氣體檢測(cè)產(chǎn)品;是集氣體采樣、氣體過(guò)濾、氣體降溫除濕、流量控制、實(shí)時(shí)濃度顯示、無(wú)線數(shù)據(jù)上傳、環(huán)保聯(lián)網(wǎng)、本地聲光報(bào)警、設(shè)備聯(lián)動(dòng)等功能為一體的標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、專業(yè)化揮發(fā)性氣體檢測(cè)儀系統(tǒng)集成產(chǎn)品;產(chǎn)品采用專業(yè)三防設(shè)計(jì),直接戶外使用;氣體在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)經(jīng)主動(dòng)采樣、專業(yè)氧氣預(yù)處理后,將干凈、干燥、恒定的樣氣送至氣體檢測(cè)儀表。具體反應(yīng)速度更快、抗*力更強(qiáng)、測(cè)量更精準(zhǔn)、壽命長(zhǎng)久等特點(diǎn);無(wú)線HJ 212協(xié)議數(shù)據(jù)上傳,可無(wú)縫對(duì)接當(dāng)?shù)丨h(huán)保監(jiān)測(cè)平臺(tái);因其zhuo越性能和良好表現(xiàn),不僅可以作為企業(yè)內(nèi)的有組織或無(wú)組織的氣體排放使用,還可以為環(huán)保監(jiān)測(cè)等部門提供數(shù)據(jù)決策支持。
SK-7500-GAS-Y 固定污染源氣體在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)適用于高溫、高壓、潮濕、含油、含水、含粉塵的惡劣監(jiān)測(cè)環(huán)境,連續(xù)監(jiān)測(cè)有組織環(huán)境空氣中的NO、NO2、NOX、O2、CO、CO2、HCL、HNO3、酸霧、氟化物、惡臭氣體、VOC有機(jī)揮發(fā)物、苯系物等氣體。
監(jiān)測(cè)系統(tǒng)由催化燃燒、電化學(xué)、熱導(dǎo)、紅外NDIR、PID光離子、光學(xué)等技術(shù)原理的煙氣廢氣檢測(cè)儀、高精密除濕除塵過(guò)濾器、長(zhǎng)壽命真空采樣泵、轉(zhuǎn)子流量計(jì)、24V電源轉(zhuǎn)換器和電路保護(hù)裝置、無(wú)線傳輸模塊(選配)等組成;其工作原理為:產(chǎn)品由220V供電,經(jīng)內(nèi)部電源轉(zhuǎn)換器變成24V后,直接給煙氣廢氣檢測(cè)儀和真空泵和無(wú)線數(shù)據(jù)模塊供電;由內(nèi)部工作的真空泵主動(dòng)將外界的氣體吸入氣管后,經(jīng)高效除濕除塵干燥過(guò)濾然后送入煙氣廢氣檢測(cè)儀的專業(yè)氣室內(nèi)進(jìn)行濃度檢測(cè);檢測(cè)的濃度值會(huì)實(shí)時(shí)在屏幕上進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示;同時(shí),還有4-20mA或RS485信號(hào)或無(wú)線212協(xié)議進(jìn)行數(shù)據(jù)遠(yuǎn)傳;另外,氣體在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)還可以搭配工廠中的風(fēng)機(jī)、閥門、噴淋系統(tǒng)等設(shè)備來(lái)使用,通過(guò)內(nèi)部開(kāi)關(guān)量信號(hào)實(shí)現(xiàn)聯(lián)動(dòng)。此外,其監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)還可以通過(guò)專用配套軟件實(shí)時(shí)接收,并且可以實(shí)現(xiàn)多路統(tǒng)一管理以及數(shù)量的擴(kuò)充。存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)還可以任意選取時(shí)間段進(jìn)行查詢,曲線顯示,數(shù)據(jù)EXCEL導(dǎo)出等,使得監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)一目了然。
二、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):
GB3836.1-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 di一部分:通用要求》
GB3836.2-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第二部分:隔爆型“d” 》
GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備第 15 部分:危險(xiǎn)場(chǎng)所電氣安裝( 煤礦除外) 》
GBT50493-2019 《石油化工可燃?xì)怏w和有毒氣體檢測(cè)報(bào)警設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)》
GB12358-2006 《作業(yè)場(chǎng)所環(huán)境氣體檢測(cè)報(bào)警儀通用技術(shù)要求》
GBZ 2.1-2007 《工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值》
GB 4208-2008 《外殼防護(hù)等級(jí)(IP 代碼)》
GB 16297-1996《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》
GB/T 16157-1996《固定污染源排氣中顆粒物測(cè)定與氣態(tài)污染物采樣方法》
HJ/T 76-2017《固定污染源排放煙氣連續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測(cè)方法》
三、產(chǎn)品特點(diǎn):
■前置預(yù)處理,高精度高性能氣體在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng),整體體積小,安裝方便;
■針對(duì)復(fù)雜生產(chǎn)環(huán)境中高溫、高濕、粉塵等惡劣環(huán)境進(jìn)行氣體預(yù)處理;
■使用進(jìn)口高性能傳感器,使用壽命長(zhǎng),有良好的抗干擾性能,可同時(shí)監(jiān)測(cè)多種氣體,實(shí)現(xiàn)高性能自動(dòng)監(jiān)測(cè),監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)準(zhǔn)確穩(wěn)定;
■檢測(cè)氣體自回流循環(huán)功能,實(shí)現(xiàn)*,更安全,更環(huán)保;
■配置紅外遙控器,無(wú)需開(kāi)蓋,實(shí)現(xiàn)全功能操作;
■標(biāo)配4-20MA、RS485、一組繼電器輸出信號(hào);既可方便接入 PLC、DCS、DDC 等工控系統(tǒng),也可以作為單機(jī)控制使用;
■選配DTU、LORA等無(wú)線模塊,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)參數(shù)采集,實(shí)時(shí)上傳氣體濃度值至環(huán)bao局或第三方平臺(tái)等服務(wù)器;
■采用7寸工業(yè)觸摸顯示屏、實(shí)時(shí)濃度、曲線圖顯示更直觀清晰;
■內(nèi)置自動(dòng)散熱系統(tǒng),有效延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。
四、技術(shù)參數(shù):
型 號(hào) | SK-7500-GAS-Y |
產(chǎn)品名稱 | 煙氣在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、廢氣在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、高溫預(yù)處理在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、樣氣處理在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、污染源VOC在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、廠界VOC在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、氮氧化物在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、惡臭在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、高溫氣體在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、碳排放在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、空氣質(zhì)量監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、微型空間站、大氣網(wǎng)格化空氣質(zhì)量監(jiān)測(cè)系統(tǒng) |
類 型 | 工業(yè)級(jí)實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)型 |
顯示方式 | 7寸觸摸彩屏顯示 |
工作方式 | 固定式連續(xù)在線工作,泵吸式檢測(cè)(正壓、負(fù)壓、真空等環(huán)境) |
外殼材質(zhì) | 鋁合金。可定制防爆與不銹鋼材質(zhì) |
輸出信號(hào) | ①4-20mA信號(hào):標(biāo)準(zhǔn)的12位精度4-20mA輸出芯片,傳輸距離1Km; ②RS485信號(hào):采用標(biāo)準(zhǔn)MODBUS RTU協(xié)議,傳輸距離1Km; ③電壓信號(hào):0.4-2V,0-5V、0-10V輸出,選配(電壓輸出與電流輸出二選一); ④開(kāi)關(guān)量信號(hào):標(biāo)配1組無(wú)源觸點(diǎn)繼電器,容量220VAC 3A/24VDC 3A; ⑤無(wú)線傳輸:DTU、LORA等無(wú)線模塊。 |
檢測(cè)介質(zhì) | NO、NO2、NOX、O2、CO、CO2、HCL、HNO3、酸霧、氟化物、惡臭氣體、VOC有機(jī)揮發(fā)物、苯系物等氣體 |
檢測(cè)原理 | 催化燃燒、電化學(xué)、熱導(dǎo)、紅外NDIR、PID光離子、光學(xué) |
檢測(cè)范圍 | 0-10/20/50/100/500/1000mg/m3、ppm(根據(jù)技術(shù)原理而定) |
分 辨 率 | 0.01/0.1/1mg/m3、ppm(根據(jù)量程而定) |
檢測(cè)誤差 | ≤±3%F.S(全量程內(nèi)≤3%)更高精度可訂制 |
重 復(fù) 性 | ≤±1% |
線性誤差 | ≤±1% |
響應(yīng)時(shí)間(T90) | T90≤30S(不同氣體響應(yīng)時(shí)間不同,可參考常用氣體選型表) |
工作電壓 | DC24V(12V~30V) |
工作溫度 | -20℃~50℃ 特殊要求:(-40℃~+70℃) |
工作濕度 | 10-95%RH(無(wú)冷凝) |
工作壓力 | 91~111Kpa(大氣101kpa±10%)(根據(jù)傳感器與使用環(huán)境而定) |
傳感器壽命 | 2~6年(根據(jù)傳感器原理與使用的環(huán)境而定) |
采樣溫度 | -40℃~+200℃(標(biāo)準(zhǔn)),選配:-40℃~+400℃、-40℃~+800℃、-40℃~ +1300℃ |
采樣濕度 | 0~99%RH |
恒定溫度 | 25℃ 氣體處理后的溫度,可設(shè)定 |
恒定濕度 | 70%RH,氣體處理后的濕度,自動(dòng) |
自動(dòng)排水 | 可根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)的水汽大小自動(dòng)排水 |
采樣距離 | 標(biāo)準(zhǔn)20米,選配大功率真空泵的采樣距離大于40米,如果被測(cè)氣體的壓力比較大,采樣距離相應(yīng)大一些 |
采樣流量 | 4升/分鐘(標(biāo)準(zhǔn)) |
工作電壓 | 220VAC,50HZ,200瓦 |
外形尺寸 | 有腳:760*500*270mm;無(wú)腳:700*500*270(見(jiàn)外觀尺寸圖) |
防護(hù)級(jí)別 | IP65 防水型(可選戶外使用) |
安裝方式 | 壁掛式,地角安裝,可選配立柱式安裝支架 |
選配附件 | (溫控器、加熱器)系統(tǒng)加熱:在極寒地區(qū)防止管路出現(xiàn)冰凍、防爆外箱、溫濕度測(cè)量、減壓閥(可選配油水分離)、高粉塵反吹裝置、文丘里、散熱分風(fēng)扇; 電腦監(jiān)控配件:免費(fèi)上位機(jī)軟件、USB 轉(zhuǎn) RS485 轉(zhuǎn)換連接線,如果要網(wǎng)絡(luò)傳輸還需 RS485 轉(zhuǎn)網(wǎng)口轉(zhuǎn)換器。 |
五、系統(tǒng)主要組成與作用:
高溫?zé)煔獾扰欧胚B續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)將樣氣按照分析儀能夠接受的壓力、溫度、濕度、流量、(含塵量)、以及干凈程度完成其處理功能,主要完成以下幾項(xiàng)工作:
5.1氣體濃度檢測(cè)儀
一款采用模塊化設(shè)計(jì)、具有智能化傳感器檢測(cè)技術(shù)、整體隔爆(d)結(jié)構(gòu)、固定安裝方式的可燃、有毒有害氣體監(jiān)測(cè)儀。是國(guó)內(nèi)氣體檢測(cè)儀行業(yè)內(nèi)獲得歐盟 CE 和 ROHS 雙認(rèn)證的氣體檢測(cè)儀品牌;可直接安裝在危險(xiǎn)區(qū)域的 1 區(qū)和 2 區(qū)使用;標(biāo)準(zhǔn)配置為帶點(diǎn)陣 LCD 液晶顯示、三線制 4~20mA 模擬和RS485 數(shù)字信號(hào)輸出,可選配置為可編程開(kāi)關(guān)量輸出等模塊,根據(jù)用戶需求提供定制化產(chǎn)品,還支持輸出信號(hào)微調(diào)等功能,方便系統(tǒng)組網(wǎng)及維護(hù)。
5.2采樣泵
用真空取樣泵或直流無(wú)刷泵將樣氣從煙道等環(huán)境中抽出。
5.3過(guò)濾器
被測(cè)氣體經(jīng)過(guò)精密過(guò)濾器再進(jìn)入取樣管路。根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)濕度大小選配,進(jìn)行二次水汽分離。
5.4排氣(水)泵
樣氣經(jīng)取樣管路降溫以后出現(xiàn)游離水,氣水分離器將氣、水、殘余粉塵分開(kāi),自動(dòng)排水、排氣。
5.5降溫除濕
通過(guò)取樣探頭和取樣管路降溫、雙級(jí)電子冷凝除濕系統(tǒng)(冷凝器),將氣體的露點(diǎn)穩(wěn)定控制在4℃或5℃。
5.6流量計(jì)
控制氣體的檢測(cè)分析進(jìn)氣量。
六、安裝方式:
6.1機(jī)柜固定
6.1.1機(jī)柜采用立柜式放置,地面應(yīng)保持平整,機(jī)柜不得傾斜放置。
6.1.2機(jī)柜有散熱風(fēng)扇,空間應(yīng)不小于 1m,便于散熱;頂部不得放置其他物品。
6.2供電
機(jī)柜采用 220V AC 供電,須確保地線接地良好。
6.3確定安裝位置
6.3.1主機(jī)箱安裝位置的選擇
首先內(nèi)部傳感器元件的耐受溫度范圍為-20℃~+50℃,適合工作溫度為+20℃左右,所以要選擇環(huán)境溫度不低于-20℃也不高于+50℃的地方安裝。
6.3.2采樣點(diǎn)與主機(jī)箱管路距離
主機(jī)箱內(nèi)部使用的抽氣泵是小型真空隔膜泵,真空度在 50KPa~70KPa 左右,管路長(zhǎng)度的原則是溫度合適的前提下越短越好,管路越長(zhǎng)數(shù)據(jù)延遲越長(zhǎng),一般20米內(nèi)是沒(méi)有問(wèn)題的。還是需要結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況而定。
6.4氣路連接
6.4.1管路接口
一路采樣進(jìn)氣口進(jìn)入系統(tǒng);一路檢測(cè)后的氣體排出口;二路過(guò)濾除水氣體排出口。接口默認(rèn)是φ6大小,可以使用外徑6mm內(nèi)徑4mm的PU軟管。
(氣路接口示意圖)
6.4.2采樣管的安裝:
采樣管插入待測(cè)氣體的管道,使用配套法蘭固定。如果待測(cè)管道氣體溫度高于采樣管的耐熱溫度,采樣前段的管路應(yīng)采取耐熱管路并進(jìn)行預(yù)降溫再接PU軟管連接檢測(cè)系統(tǒng)的采樣接口,即標(biāo)簽為“采樣”的接口。
6.4.3氣路排出接口的接法:
排空口:使用φ6的PU軟管連接,主要排放的是從流經(jīng)檢測(cè)儀里檢測(cè)后的氣體,
排水口:兩個(gè)排水口,使用φ6的PU軟管連接,可以用三通頭合并為1條管路排出,大部分的采樣氣體和水汽從這里排出,如果管道待測(cè)氣體管道溫度高、濕氣大所含水汽較多,那 顯示為排水的二路排水口會(huì)有水流出,所以排水管應(yīng)向下安裝,以保證水流順利排出。
(安裝示意圖)
七、使用調(diào)試中的注意事項(xiàng):
7.1流量控制
系統(tǒng)運(yùn)行中,通過(guò)調(diào)整流量計(jì)和冷凝器下端排水管道上的節(jié)流閥,控制流過(guò)檢測(cè)儀表的氣體流量在400ml/min左右。
7.2信號(hào)輸出
如果外部設(shè)備需要接系統(tǒng)的4-20mA輸出信號(hào)讀取濃度數(shù)據(jù)的情況,4-20mA輸出信號(hào)是藍(lán)色線已經(jīng)接在端子排上,藍(lán)色為電流輸出正極,電流輸出負(fù)極為24V負(fù)極。如果要使用 RS485接口讀取濃度數(shù)據(jù),需用一個(gè)DB9接頭插入觸控屏背面的COM2,9針為485A,8針為 485B,需結(jié)合通訊協(xié)議操作,如有需要可聯(lián)系業(yè)務(wù)索取。
7.3冷凝器
冷凝器的目標(biāo)冷凝溫度使用默認(rèn)溫度即可。
7.4過(guò)濾器
需要定期手動(dòng)維護(hù)清洗粉塵過(guò)濾器,防止粉塵堵塞氣路。
八、應(yīng)用領(lǐng)域:
石油石化、化工廠、冶煉廠、鋼鐵廠、煤炭廠、熱電廠、自來(lái)水廠、醫(yī)藥車間、煙草公司、大氣環(huán)境監(jiān)測(cè)、科研院校、樓宇建設(shè)、消防報(bào)警、污水處理、工業(yè)過(guò)程化控制、鍋爐房、垃圾處理廠、地下隧道、輸油管道、加氣站、地下管網(wǎng)檢修、室內(nèi)空氣質(zhì)量檢測(cè)、食品加工、殺菌消毒、冷凍倉(cāng)庫(kù)、農(nóng)藥化肥、殺蟲(chóng)劑生產(chǎn)等。
九、設(shè)備清單:
序號(hào) | 貨品名稱 | 數(shù)量 |
1 | SK/MIC-600-GAS-Y 氣體濃度檢測(cè)儀 | 1 |
2 | 7寸觸摸屏 | 1 |
3 | 高效除濕除塵過(guò)濾器 | 1 |
4 | 采樣泵 | 1 |
5 | 流量計(jì) | 1 |
6 | 冷凝器 | 1 |
7 | 散熱風(fēng)扇 | N |
8 | 24V電源 | 1 |
9 | 漏電開(kāi)關(guān) | 1 |
10 | 流通池 | 1 |
11 | 排氣(排水)泵 | 1 |
12 | 氣路軟管 | N |
13 | 不銹鋼采樣管 | 1 |
14 | 箱體 | 1 |
十、外箱尺寸圖:
十一、產(chǎn)品物流包裝:
附表:常用氣體選型表
檢測(cè)氣體 | 量程 | zui大允許 誤差值 | 最小讀數(shù) | 響應(yīng)時(shí)間T90 |
可 燃?xì)?E X) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
可 燃?xì)?E X) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-30%Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氮 氣(N 2) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-20000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-500ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-50000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-20%Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
臭 氧(O 3) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-5ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-30000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-20mg/L | <±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
臭 氧水(O 3) | 0-20mg/L | <±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-500ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-20000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-40000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氦 氣(H e) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氬 氣(A r) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氙 氣(X e) | 0-100 %Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 1%LEL | ≤30秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴化 氫(HB r) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-2ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N2 H4) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N2 H4) | 0-300ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
四氫 噻吩(TH T) | 0-100mg/m3 | <±3%(F.S) | 0.01 mg/m3 | ≤60秒 |
溴 氣(B r2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100 %LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 醛(C2 H4O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 胺(C H5N) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
典 氣(I 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯乙 烯(C2H3 CL) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氯 乙烯(C2H CL3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
四氯 乙烯(C2 CL4) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
笑 氣(N 2O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氟 化氮(N F3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
過(guò)氧 化氫(H 2O 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-30000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-200g/m3 | <±3%(F.S) | 0.1g/m3 | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
免責(zé)聲明