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電去離子系統(tǒng)(CEDI)

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更新時(shí)間:2021-06-26 10:04:40瀏覽次數(shù):651

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電去離子系統(tǒng)(CEDI)詳細(xì)說(shuō)明:電除鹽(CEDI)簡(jiǎn)介:  電除鹽(CEDI)是將電滲析與離子交換相結(jié)合的新型水處理方法,利用電滲析中的極化現(xiàn)象對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)持續(xù)再生,不需要酸堿,更符合現(xiàn)代環(huán)保要求,可替代離子交換混床,制取超純水

詳細(xì)介紹

 
電去離子系統(tǒng)(CEDI)   
電去離子系統(tǒng)(CEDI)

詳細(xì)說(shuō)明:
電除鹽(CEDI)簡(jiǎn)介:
  電除鹽(CEDI)是將電滲析與離子交換相結(jié)合的新型水處理方法,利用電滲析中的極化現(xiàn)象對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)持續(xù)再生,不需要酸堿,更符合現(xiàn)代環(huán)保要求,可替代離子交換混床,制取超純水。

技術(shù)原理
  電除鹽(CEDI)設(shè)備由陰陽(yáng)電極板、離子交換樹脂、離子交換膜等組成,水中的離子被離子交換樹脂捕獲,水得到脫鹽純化;在電場(chǎng)的作用下,被捕獲的陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)膜、陰離子透過(guò)陰膜。離子透過(guò)離子交換膜后進(jìn)入濃水室匯集排放。在一定電流下,水分子被電離成H+、OH-離子, 對(duì)失效樹脂進(jìn)行再生,從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)產(chǎn)水、連續(xù)再生。

技術(shù)特征
※制取電子級(jí)超純水
※可連續(xù)自動(dòng)生產(chǎn),不必停機(jī)再生
※出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法
※不需酸堿再生,不污染環(huán)境
※運(yùn)行成本低,占地面積小

進(jìn)水水質(zhì)要求:
※鐵離子: < 0.01mg/L
※游離氯: < 0.5mg/L
※硬度: < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※總有機(jī)碳: < 0.5mg/L
※PH: 5.0-9.0

 
   

 

 

性能指標(biāo)
※出水電阻率: 10-18MΩ.cm
※SiO2: <10 ppb
※Na+: <10 ppb
※脫鹽率: >99.5%
※單臺(tái)產(chǎn)水量: 1-450 m3/h

應(yīng)用范圍
※電力、石化及冶金行業(yè)的水處理除鹽
※電子行業(yè)超純水的制取
※醫(yī)藥行業(yè)超純水的制取
 

CEDI流程示意圖


 
 
五大保護(hù)
輸入保護(hù)
高低壓保護(hù)和電壓跌落保護(hù):供電電網(wǎng)電壓突變和各種用電設(shè)備啟動(dòng)停止時(shí)造成短時(shí)的尖峰或跌落,對(duì)機(jī)器內(nèi)電子開關(guān)器件危害極大,機(jī)內(nèi)濾波電路可有效地防止各種共模及差模干擾對(duì)機(jī)內(nèi)元件的影響。
輸出保護(hù)
過(guò)流和過(guò)壓以及空載保護(hù): 自動(dòng)限制使輸出不超過(guò)設(shè)計(jì)電流和電壓。在空載的情況下,輸出電壓有可能直線上升,超過(guò)某些元件的耐壓極限將其燒毀。本機(jī)設(shè)置了空載電壓極限,可以有效防止電壓超限上升。
軟啟動(dòng)電流特性保護(hù)
一般情況下,開機(jī)前由于機(jī)內(nèi)電容呈空態(tài),開機(jī)時(shí)將出現(xiàn)短時(shí)大充電電流,該電流有可能將開關(guān)觸點(diǎn)焊合或使外部供電空氣開關(guān)掉閘。機(jī)內(nèi)保護(hù)裝置可有效地避免這一情況發(fā)生。
超溫保護(hù)
當(dāng)某種原因使得機(jī)器內(nèi)部溫度超過(guò)安全值時(shí),本機(jī)可以自動(dòng)停止工作,并報(bào)警,防止損壞元器件,待故障處理完畢而溫度降低時(shí)自動(dòng)恢復(fù)工作。
流量保護(hù)
如果濃水和極水流量不足,膜堆工作時(shí)內(nèi)部產(chǎn)生的熱量無(wú)法被帶走,溫度達(dá)到一定程度時(shí)將使隔板變形,造成泄露或短路等不可恢復(fù)的故障情況。本機(jī)配置外部流量開關(guān),可以只在流量滿足要求的情況下才輸出電流,達(dá)到流量保護(hù)之目的。
 

  

 

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