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PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等離子體增強化學的氣相沉積
PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促使反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD).
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更新時間:2021-01-06 13:34:18瀏覽次數(shù):597
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PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等離子體增強化學的氣相沉積
PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促使反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD).