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雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀

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  • 雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀

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  • 型號 CY-MS500S-2TA1S
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  • 廠商性質 其他
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更新時間:2023-02-16 08:18:43瀏覽次數(shù):240

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產品簡介

簡單介紹: 雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規(guī)管,進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。

詳細介紹

詳情介紹:

CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。

設備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規(guī)管,進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

設計特色

1. 設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。

2. 真空室采用下置靶設計,樣品臺具有加熱和旋轉但是功能,可以使鍍膜效果更加均勻。

3. 設備真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

4. 真空腔體采用304不銹鋼制成,配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細,真空性能優(yōu)異。

5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優(yōu)良,能有效保證鍍膜質量。

技術參數(shù)

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x2

冷卻方式

水冷

蒸發(fā)系統(tǒng)

蒸發(fā)源

鎢絲籃

*高溫度

1500℃

熱電偶

S型熱電偶

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 300mm

觀察窗口

φ100mm

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

前開門式

真空系統(tǒng)

機械泵

旋片泵

抽氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s

 

 

分子泵

渦輪分子泵

抽氣接口

CF150

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

真空測量

電阻規(guī)+電離規(guī)

 

 

極限真空

1.3x10-4Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺

輸出功率

≤1000W

輸出電壓

≤600W

響應時間

<5ms

射頻電源數(shù)量

1臺

輸出功率

≤1000W

功率穩(wěn)定度

≤5W

 

 

射頻功率

13.56MHz

射頻穩(wěn)定度

±0.005%

膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

膜厚儀測量分辨率

±0.03Hz

測量精度

±0.5%

測量上限

50000

測量速度

100~1000ms

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

供氣系統(tǒng)

流量計類型

質量流量計

量程

200sccm

氣體類型

Ar氣

 

 

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

1400x750x1300mm

整機功率

4kw(主機+真空泵)

整機重量

295kg

樣品臺 

樣式一:尺寸150mm,加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃, 旋轉速度1-20r/min


樣式二:尺寸φ150mm,高度 上下70mm精準可調,旋轉速度1~20rpm,加熱溫度 0~500℃



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