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UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)

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參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) CY-MSP325S-3RF-D
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地

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更新時(shí)間:2020-12-31 21:27:57瀏覽次數(shù):651

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹: 三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化,模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜,導(dǎo)電膜,合金膜,半導(dǎo)體膜,陶瓷膜,介電膜,光學(xué)膜,氧化物膜,硬膜,PTFE膜等。 與同類(lèi)設(shè)備相比,這種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)不僅用途廣泛,而且具有體積小,操作簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn),是實(shí)驗(yàn)室制備材料膜的......

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

技術(shù)參數(shù)



電源電壓

交流220v60Hz

UPS


20KVA 16KW,延遲1小時(shí)

16節(jié)電池,容量38AH

真空室

尺寸:直徑 325毫米*385毫米

材質(zhì):304不銹鋼

視口(窗口):約4英寸(100毫米),帶快門(mén)

樣品臺(tái)

頂部樣品架

樣品表:直徑 150毫米

樣本數(shù)量:*大 直徑4英寸

轉(zhuǎn)速:0-40rpm可調(diào)

加熱溫度:*高700oC

水冷裝置

水流量:2.3m3 / h

電源:3P

制冷量:8250Kcal / h

壓縮機(jī)輸出功率:2.25KW

磁控濺射槍

3×2''磁控濺射槍?zhuān)瑤ё詣?dòng)快門(mén)

向上濺射方向

目標(biāo)直徑:2英寸

磁鐵:稀土磁鐵

射頻發(fā)生器

l3×RF 300W自動(dòng)匹配電源

l功率輸出范圍:5W?300W

l*大反射功率:100W

l電源穩(wěn)定性:±0.1

l諧波成分:≤-50dbc

l電源:?jiǎn)蜗?span>187-253 VAC50 / 60HZ

效率:≥70

l功率因數(shù):≥90

l反射功率(*大功率):<3W

l*大負(fù)載電流:30ARMS

l*大負(fù)載電壓:7500VRMS

射頻輸出接口:50Ω,L29或定制

比賽時(shí)間:1?3s

l匹配阻抗的實(shí)部范圍:0?80Ω

l匹配阻抗的虛部范圍:﹣200j?﹢ 200j

l冷卻方式:強(qiáng)制冷卻

質(zhì)量流量計(jì)

l3×MFC質(zhì)量流量控制(ArO2N2

l測(cè)量范圍:*大20sccm

帶氣動(dòng)隔離閥和過(guò)濾器。

通過(guò)PCPLC全自動(dòng)控制

儲(chǔ)存至少100個(gè)配方

19''平板控制器


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