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分體式單靶磁控鍍膜儀

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更新時(shí)間:2020-12-31 20:28:46瀏覽次數(shù):305

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹: 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄,腔體設(shè)計(jì)開啟方便,易于清理,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)......

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

樣品臺

尺寸

150mm

加熱溫度

≤500℃

 

旋轉(zhuǎn)速度

1-20r/min

控溫精度

±1℃

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x1 

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ270mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

 

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

CY240

抽氣接口

KF16

 

抽氣速率

1.1L/s

 

 

 

分子泵

CY600

抽氣接口

KF40

 

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

 

真空測量

電阻規(guī)+電離規(guī)

 

 

 

極限真空

10-5Pa數(shù)量級

供電電源

AC;220V 50/60Hz

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺

輸出功率

500W

 

輸出電壓

≤600V

響應(yīng)時(shí)間

<5ms

 

射頻電源數(shù)量

1臺

輸出功率

≤1000W

 

功率穩(wěn)定度

≤5W

 

 

膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

膜厚儀測量分辨率

±0.03Hz

測量精度

±0.5%

 

測量上限

50000

測量速度

100~1000ms

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

3kw(主機(jī)+真空泵)

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