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雙靶磁控濺射鍍膜儀

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更新時間:2020-12-31 20:27:25瀏覽次數(shù):715

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹: 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶......

詳細介紹

詳情介紹:

技術參數(shù):

項目

明細

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

3KW

極限真空度

10-6torr

載樣臺參數(shù)

尺寸

φ140mm

 

加熱溫度

*高500℃

 

控溫精度

±1℃

 

轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個2"磁控濺射頭

 

冷卻方式

水冷,所需流速10L/min

 

水冷機規(guī)格

16L/min流速的循環(huán)水冷機

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 300mm H

 

腔體材料

不銹鋼

 

觀察窗口

φ100mm

 

開啟方式

上頂開式,便于更換靶材

氣體流量控制器

4路分別通N2,Ar,O2,空氣;

量程均為0-500sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S

膜厚儀

石英振動薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源一臺,500W,適用于制備金屬膜

射頻電源一臺,300W,適用于非金屬鍍膜

操作方式

面板按鈕操作

整機尺寸

1400mm X 750mm X 1300mm

整機重量

300kg

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