詳細(xì)介紹
FHC-00型高頻熔樣機(jī)是瑞紳葆分析技術(shù)(上海)有限公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設(shè)備,還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測試用玻璃熔片是這樣過程:試樣在助熔劑(如硼酸鋰鹽)的協(xié)助下,用鉑黃坩堝(一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5)做導(dǎo)熱容器,通過高溫加熱熔融(熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間),后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。玻璃熔片法作為XRF測試的制備樣品重要方法之一,有效減少甚至消除了樣品在XRF分析時(shí)的顆粒效應(yīng)、基體效應(yīng)、礦物效應(yīng)等不良因素,提高了XRF的精確度,在鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥等行業(yè)有廣泛應(yīng)用。本自動高頻熔樣機(jī)是為快速高效制備XRF分析用玻璃熔片而設(shè)計(jì),整機(jī)結(jié)構(gòu)合理,采用高頻感應(yīng)加熱技術(shù),有*的加熱速度,同時(shí)配備有高精度紅外測溫系統(tǒng)實(shí)時(shí)測溫并結(jié)合PID控溫技術(shù)確保熔樣過程的溫度準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性,*的保障玻璃熔片的質(zhì)量,采用直觀全觸摸屏設(shè)計(jì),人機(jī)界面友好,操作簡單,PLC智能控制組成整機(jī)控制中樞,使得熔樣機(jī)具有*的自動化程度,穩(wěn)定和靈活操作特性。高頻快速加熱結(jié)合完整的溫度控制、運(yùn)動搖勻、安全機(jī)制等設(shè)計(jì)使得本設(shè)備在玻璃熔片制樣上表現(xiàn)出高效穩(wěn)定特性,各項(xiàng)指標(biāo)性能表現(xiàn)*,擁有很高的性價(jià)比,適用性強(qiáng),可以滿足不同客戶對不同樣品的快速玻璃熔片制樣需求。
優(yōu)點(diǎn)
? 靈活,多功能性:XRF分析用玻璃熔片,AAS和ICP分析用溶液。
? 采用高頻感應(yīng)加熱系統(tǒng),快速升溫,過程可靠穩(wěn)定高效。
? 有單堝單模,雙堝雙模,四堝四模等三種可選,制樣速度為:5-10min/批。
? 采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機(jī)界面,操作簡單、安全可靠。
? 采用高精度紅外測溫系統(tǒng),結(jié)合PID智能溫度控制,保證熔樣過程的控溫制樣準(zhǔn)確性。
? PLC智能控制系統(tǒng),可預(yù)存儲5套常用制樣程序。
? 具熔融過程自動擺動功能,保障熔樣均勻性。
? 自動完成整個熔化和澆鑄成型。用戶只需按自己要求上樣,按預(yù)氧化→加熱熔化→擺動搖勻→澆鑄成型→冷卻,設(shè)定好熔樣程序,一鍵啟動,即可自動執(zhí)行完成快速高質(zhì)量制樣。
? 對鉑金坩堝和成型模具設(shè)計(jì)有耐熱陶瓷保護(hù)架,保障其正常使用壽命。
? 熔化室內(nèi)設(shè)計(jì)有專門抽風(fēng)系統(tǒng),可及時(shí)排走熔化過程中產(chǎn)生的有害氣體,保障用戶健康使用。
? 有過壓、過流、過熱、缺水、超溫等多重安全防護(hù),保障安全穩(wěn)定使用。
? 對不同樣品有廣泛適用性,制得的熔片均勻可靠,性價(jià)比高,可*滿足用戶XRF分析時(shí)對玻璃熔片的高要求。
技術(shù)參數(shù)
型號 | FHC-00 |
溫度范圍 | 室溫-1300℃ |
加熱方式 | 高頻感應(yīng)加熱 |
控溫方式 | 紅外非接觸實(shí)時(shí)測溫,PID反控高頻加熱 |
額定功率 | 單堝:8kw, 空開要求:32A 雙堝:16kw, 空開要求:60A 四堝:32kw, 空開要求:125A |
電源 | 單相AC220V±10%、50/60Hz,保護(hù)接地 |
振蕩頻率 | 50-100kHz |
坩堝架搖擺角度 | 大±45° |
坩堝架搖擺頻率 | 30-99次/分鐘(用戶可調(diào)) |
倒樣角度 | 60-122°(用戶可調(diào)) |
成型方式 | 自動倒模澆鑄成型 |
控制系統(tǒng) | 集操作顯示控制一體彩色液晶觸摸屏、PLC控制 |
預(yù)存儲程序數(shù) | 5條(用戶可設(shè)置常用熔樣程序) |
熔樣曲線工作模式及各階段時(shí)間 | 預(yù)熱-氧化-熔融-搖擺-自動澆鑄成型-冷卻,各階段時(shí)間可調(diào) |
感應(yīng)圈水溫 | ≤60℃ |
冷卻系統(tǒng) | 加熱線圈需水冷卻(外置冷水機(jī)),供水要求大于3L/min, 水壓≤0.2MPa;熔片冷卻采用風(fēng)扇強(qiáng)制風(fēng)冷 |
熔樣工作方式 | 預(yù)氧化→熔融+擺動→自動澆鑄成型→冷卻 |
熔樣位 | 雙堝雙模(用戶可選單堝單模,或四堝四模) |
熔樣速度 | 5-10min/批(根據(jù)樣品的復(fù)雜程度而定) |
設(shè)備安全保護(hù) | 過壓、過流、過熱、缺水、超溫 |
坩堝要求 | 鉑黃坩堝(Pt/Au: 95/5) |
儀器重量 | 50kg(雙鍋雙模)/25kg(單堝單模)/100kg(四堝四模) |
主機(jī)尺寸(L×W×H mm) | 雙堝雙模型主機(jī):580×828×425(不包括外置水冷機(jī)) 單堝單模型主機(jī):580×414×425(不包括外置水冷機(jī)) 四堝四模型主機(jī):580×1656×425(不包括外置水冷機(jī)) |
應(yīng)用領(lǐng)域
鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥、陶瓷耐火材料等行業(yè),用于礦石、巖石、土壤、耐火材料、冶金原料等樣品的XRF分析——玻璃熔片制樣。
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