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頭孢母核廠家說明產(chǎn)品步驟如下：
?。?）還原物Ⅰ的制備，攪拌下加入3羥基頭孢，四氫呋喃，降溫至10～5℃，加入四氫呋喃溶液四氫呋喃溶液，室溫下攪拌反應，反應完畢，降溫至15～10℃，滴入冰乙酸，攪拌、升溫至室溫，反應液蒸去四氫呋喃得還原物Ⅰ；
（2）7ANCE的制備，在通氮氣狀態(tài)下，加入二氯甲烷，冷卻至15～20℃，加入二氯三苯基膦、還原物Ⅰ，吡啶，15～18℃進行反應，再加入醇，將體系升溫至25～28℃攪拌反應，反應完畢得頭孢布烯母核7ANCE。
本方法生產(chǎn)過程安全、成本低，同時簡化工藝路線，實現(xiàn)羥基消除和脫保護反應同時進行，縮短了操作時間，提高了收率，便于工業(yè)化生產(chǎn)。
頭孢母核的β-內(nèi)酰胺鍵相對穩(wěn)定而不易開環(huán)，故而頭孢類藥物并沒有共同的抗原決定簇，其過敏反應更顯得“捉摸不定”。
?。?） 頭孢菌素類藥物缺乏共同的抗原決定簇。
?。?） 側鏈在頭孢菌素的過敏中具有一定的作用：
a. 早期頭孢（一代頭孢、80年代以前上市的二代頭孢）的R1側鏈與部分青霉素類藥物相似，可導致與青霉素的交叉過敏。
b. 側鏈可導致頭孢菌素間的交叉過敏。頭孢菌素按側鏈結構可分為三類，同類頭孢菌素間的交叉過敏風險遠高于不同類別的頭孢菌素：
A類頭孢菌素：側鏈均含甲氧亞氨基，包括頭孢呋辛、頭孢曲松、頭孢噻肟、頭孢他啶、頭孢地嗪、頭孢吡肟等。
B類頭孢菌素：側鏈均含相似的胺基基團，包括頭孢克洛、頭孢氨芐、頭孢羥氨芐等。
C類頭孢菌素：側鏈各不相同，包括頭孢唑林、頭孢哌酮、頭孢丙烯等其它頭孢菌素。
（3）其它各類物質(zhì)（雜質(zhì)）均可導致過敏：
a. 早期頭孢菌素內(nèi)含少量青霉素，可導致過敏。
b. 高分子雜質(zhì)（聚合物）是導致過敏的主要因素：
外源性雜質(zhì)：多源于生產(chǎn)過程中混入。
內(nèi)源性雜質(zhì)：來自于β-內(nèi)酰胺鍵開環(huán)、藥物分子聚合。可來源于生產(chǎn)過程中的污染、儲存過程中的聚合。
c. 藥物包材：玻璃瓶、膠塞釋放的物質(zhì)也可引起過敏。
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