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美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 1000

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更新時(shí)間：2021-10-06 20:26:08瀏覽次數(shù)：382次

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上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 屬于無柵網(wǎng)離子源. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

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