RO反滲透純化水設(shè)備在使用過程中，難免會有一些沉淀物，本文主要介紹以下幾種常見的污染物及去除方法。
碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時會導(dǎo)致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0-5.0之間運(yùn)行1-2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用膜清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
注：應(yīng)確保任何清洗液的PH值不要低于2.0，否則可能會給RO反滲透純化水設(shè)備RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應(yīng)注意，zui高的 PH 不應(yīng)高于 11.0。可使用氨水來提高 PH ，使用硫酸或鹽酸來降低 PH 值。
硫酸鈣垢
請按照膜RO反滲透純化水設(shè)備廠家*使用的清洗方法清洗。
金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 )。
硅垢
對于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ嘘P(guān)的詳細(xì)方法請與RO反滲透純化水設(shè)備公司。
有機(jī)沉積物
有機(jī)沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用氫氧化鈉配成溶液清洗去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)世沃公司認(rèn)可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如RO反滲透純化水設(shè)備停用三天時，采用消毒處理，請與公司會商以確定適宜的殺菌劑。
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