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大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡BMT-700E

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更新時(shí)間:2021-08-13 17:31:35瀏覽次數(shù):275次

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經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:158條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:張成 (銷售)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

BMT-700E大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.

詳細(xì)介紹

一、用途:
BMT-700E大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過程中的檢測(cè)儀器之一.
二、技術(shù)參數(shù)

1.目鏡

類別放大倍數(shù)視場(chǎng)(mm)
大視野目鏡10Xφ18

2.物鏡

類 型

放大倍數(shù)

數(shù)值孔徑NA

工作距離(mm)

長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)消色差物鏡

5X(明場(chǎng))

0.12

18.3

10X(明暗場(chǎng))

0.25

8.9

20X(明暗場(chǎng))

0.40

8.7

40X(明暗場(chǎng))

0.60

3.7

80X(明場(chǎng))

0.80

0.96

3.光學(xué)放大倍數(shù):50X -- 800X 系統(tǒng)參考放大倍數(shù):50X-5000X
4.濾色片組:黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
5.偏光裝置:可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
6.載物臺(tái):三層機(jī)械移動(dòng)式(配有快速移動(dòng)裝置)
尺寸:274*274mm 移動(dòng)范圍:203*203mm[選配]
7.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu),微動(dòng)手輪格值:0.002mm
8.落射照明器:6V/20W鹵素?zé)?,亮度可調(diào)
9.防霉:*的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):500萬高像素的數(shù)字?jǐn)z像頭
三、系統(tǒng)組成
大平臺(tái)硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-700E): 1.顯微鏡 2.適配鏡 3、500萬高像素?cái)z像頭
4、計(jì)算機(jī)(選配)
四、總放大參考倍數(shù)
電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-700E):50--4000倍 (17寸顯示器為例)
五、選購(gòu)件
1.二維測(cè)量軟件CF-2000C 2.目鏡: 20X 10X(帶刻度)

關(guān)鍵詞:顯微鏡

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