德國(guó)進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用納米研磨機(jī)

德國(guó)進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用納米研磨機(jī)，研發(fā)用研磨機(jī)，小試用研磨機(jī)，實(shí)驗(yàn)室用研磨機(jī)，小型研磨機(jī)，高剪切研磨機(jī)，研發(fā)用管線式研磨機(jī)，高速剪切研磨機(jī)

CM2000/4研發(fā)用研磨機(jī)的技術(shù)參數(shù)：功率2.2KW，轉(zhuǎn)速0-14000rpm，線速度0-44m/s，電壓380V，機(jī)器產(chǎn)量為0-700升/小時(shí)（水），重量45KG，尺寸(長(zhǎng)寬高450250X350)mm，使用雙機(jī)械密封，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是實(shí)驗(yàn)和中試生產(chǎn)的很好的選擇。

CM2000/4德國(guó)進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用納米研磨機(jī)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

1.轉(zhuǎn)速相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出三倍

CM2000/4為立式分體式結(jié)構(gòu)，通過(guò)皮帶傳動(dòng)，并實(shí)現(xiàn)加速，加速比為3：1即正常50HZ頻率下轉(zhuǎn)速為7890RPM，外加變頻可達(dá)13789RPM。CM2000/4分散頭直徑為55mm。

由此可得線速度（V=3.14*D（轉(zhuǎn)子直徑）*n/60）

V1= 3.14*0.055*7890/60 =23M/S

V2=3.14*0.055*13789/60=40M/S

2.磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì)，使之分散作用力更大，效果更好。

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 分散頭的線速率

– 轉(zhuǎn)子-定子間距

結(jié)合1，2中的數(shù)據(jù)可得：

F1=23/0.7*1000=32857S-1

F2=40/0.7*1000=57142S-1

普通轉(zhuǎn)速為3000RPM的機(jī)型大約在14293-21544S-1

3.德國(guó)進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長(zhǎng)使用壽命

滿(mǎn)足以下條件使得機(jī)械密封的使用壽命更長(zhǎng)：

- 可允許的壓力比率

- 充份的冷卻和濕度

- 材料的合適搭配

該密封件配有壓力平衡罐，保證機(jī)封上下端面受力平衡，同時(shí)可通過(guò)自身結(jié)構(gòu)的泵環(huán)效應(yīng)和熱虹吸效應(yīng)實(shí)現(xiàn)冷卻水的自動(dòng)循環(huán)。該循環(huán)系統(tǒng)為獨(dú)立系統(tǒng)，與外界無(wú)接觸，平衡罐內(nèi)冷卻液可選純化水或合適的溶劑。通過(guò)換熱管實(shí)現(xiàn)熱交換。

    

4.CM2000/4與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置相同。各種工作頭的種類(lèi)及相應(yīng)線速度相同，實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)到工業(yè)化的過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。
 

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