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TESCAN MAGNA 新一代超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

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更新時(shí)間:2024-05-16 07:10:04瀏覽次數(shù):134

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TESCAN MAGNA 新一代超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

詳細(xì)介紹

背散射電子圖像分辨率:1.6 nm @ 15 kV
二次電子圖象分辨率:0.6 nm @ 15 kV
加速電壓:0.2~30 kV (減速模式下<>
放大倍數(shù):2~2,000,000 倍
儀器種類(lèi):場(chǎng)發(fā)射

TESCAN MAGNA 新一代超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
TESCAN MAGNA 是一款功能極其強(qiáng)大的分析儀器,適用于納米材料的形貌表征以及微觀分析。TESCAN MAGNA 配置 Triglav™ 型 SEM 鏡筒,具有超高的分辨率,在低電壓下尤為明顯;鏡筒內(nèi)探測(cè)器系統(tǒng)具有電子信號(hào)過(guò)濾能力,可以獲得更好的圖像襯度和表面靈敏度,非常適用于不導(dǎo)電樣品的成像,如陶瓷、無(wú)涂層生物樣品,以及在半導(dǎo)體光敏樣品。此外,TESCAN MAGNA 配備肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)軌蛱峁└哌_(dá) 400 nA 的束流,結(jié)合 Triglav™ 型 SEM 鏡筒所具備的出色納米尺度分析性能和高穩(wěn)定性,為微分析和長(zhǎng)耗時(shí)樣品的分析應(yīng)用提供了條件。
TESCAN MAGNA 使用了全新的 TESCAN Essence™ 軟件,用戶(hù)界面友好,可以滿(mǎn)足各類(lèi)應(yīng)用需求,可定制的布局以及自動(dòng)化的樣品制備功能,限度地提升了操作便捷性和工作效率。

TESCAN MAGNA FE-SEM 主要優(yōu)勢(shì):
* 強(qiáng)大的微觀形貌觀測(cè)和微分析能力

TESCAN 的 Triglav™ 型 SEM 鏡筒具有 TriLens™ 三物鏡系統(tǒng) ,適用領(lǐng)域更加多樣化。UH-resolution  物鏡提供的超高分辨率非常適合于形貌細(xì)節(jié)觀察,使研究人員能夠更好的分析納米級(jí)樣品。全新的高分辨 Analytical 物鏡可實(shí)現(xiàn)無(wú)漏磁成像,是磁性樣品觀察和分析(EDS, EBSD)的理想選擇。第三個(gè)物鏡可以實(shí)現(xiàn)多種觀測(cè)模式切換,新一代 Triglav™ 鏡筒還具有自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能,可以提高了大束流下的分辨率,這一特點(diǎn)有利于更好的進(jìn)行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。

* 提供的分析條件
肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍能夠產(chǎn)生高達(dá) 400 nA 的電子束流,電壓也可以快速改變并保證在所有的分析應(yīng)用下都能夠獲得良好的信號(hào)。

* 讓復(fù)雜的應(yīng)用變的的簡(jiǎn)單
新一代 TESCAN Essence™ 是一款簡(jiǎn)化的、支持多用戶(hù)的軟件,它的布局管理器可以幫助用戶(hù)快速、方便地訪問(wèn)所有主要功能。軟件界面可自定義,更好地適應(yīng)特定的應(yīng)用方向,符合不同用戶(hù)的使用偏好。軟件的各種功能模塊、向?qū)Ш蛻?yīng)用方案使得無(wú)論是入門(mén)級(jí)用戶(hù)或是專(zhuān)家級(jí)用戶(hù)都能夠輕松順暢的掌握掃描電鏡的操作,從而提升樣品的處理速度,提高工作效率。

* 可以獲得不同襯度圖像,洞察樣品 
TESCAN MAGNA 配備 TriBE™ 探測(cè)器系統(tǒng):包含三個(gè)背散射電子探測(cè)器,可以根據(jù)角度和能量的差異選擇性地收集信號(hào)。Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探測(cè)器位于鏡筒內(nèi),可以接收中角度和軸向的背散射電子,而樣品室內(nèi)背散射電子探測(cè)器則用于接收廣角背散射電子。同時(shí),TESCAN MAGNA 還配備 TriSE™ 探測(cè)器系統(tǒng):共有三個(gè)二次電子探測(cè)器,可在所有工作模式下以方式獲取二次電子:In-Beam SE 探測(cè)器可以在非常短的工作距離下接收二次電子;SE(BDM)為電子束減速模式下的二次電子探測(cè)器,可以提供的分辨率;樣品室內(nèi)的二次電子探測(cè)器則能提供形貌襯度的圖像。

TESCAN MAGNA FE-SEM 突出特點(diǎn):
的電子信號(hào)選擇檢測(cè)功能,幫助用戶(hù)獲得更好的表面靈敏度和襯度。
進(jìn)一步提升了低電壓下超高分辨 SEM 成像,以及在 30keV 下使用 STEM 表征納米材料的性能。
自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能,有利于更好的進(jìn)行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。

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