能否充分發(fā)揮透射電鏡的作用，樣品的制備是關(guān)鍵的一環(huán)。供透射電鏡觀察的樣品，必須根據(jù)不同的儀器要求和試樣的特征來選擇適當?shù)闹苽浞椒?，才能達到較好的效果。在透射電鏡中，電子束是透過樣品成像的，而電子束的穿透能力不大，這就要求要將試樣制成很薄的薄膜樣品。由樣品成像原理可知，電子束穿透樣品的能力，主要取決于加速電壓和樣品物質(zhì)的原子序數(shù)。一般來說，加速電壓越高，樣品原子序數(shù)越低，電子束可以穿透的樣品厚度就越大。

目前為止，透射電鏡的樣品制備方法有很多種，常用的可分為支持膜法、復(fù)型法、晶體薄膜法和超薄切片法四種。

1、支持膜法 粉末試樣和膠凝物質(zhì)水化漿體多采用此法。一般做法是將試樣載在一層支持膜上或包在薄膜中，該薄膜再用銅網(wǎng)承載，支持膜的作用是支承粉末等試樣，而銅網(wǎng)的作用是加強支持膜。

支持膜材料必須具備下列條件：本身沒有結(jié)構(gòu)，對電子束的吸收不大，以免影響試樣結(jié)構(gòu)的觀察；本身顆粒度要小，以提高樣品分辨率；本身有一定的力學(xué)強度和剛度，能忍受電子束的照射而不致畸變或破裂。目前常用到額支持膜材料有：火棉膠、聚醋酸甲基乙烯酯、碳、氧化鋁等。

常用的支持膜制備方法主要有：火棉膠膜、噴碳、碳膜、

常用的支持膜上試樣的制備方法主要有：包藏法、撒布法、懸浮法、糊狀法、噴霧閥

2、復(fù)型法 復(fù)型法是一種薄膜將固體試樣表面的浮雕復(fù)制下來的一種間接樣品。因此，它只能作為試樣形貌的觀察和研究，不能用來觀察試樣的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。其在金屬材料的細微組織分析、斷口分析及在薄膜制備技術(shù)與掃描電子顯微鏡技術(shù)受到一定限制時用的較多。

3、薄膜法 人們可以在電鏡下直接觀察分析以晶體試樣本身制成的薄膜樣品，從而可使透鏡得以充分發(fā)揮它分辨本領(lǐng)的特長，并利用電子衍射效應(yīng)來成像，不僅能顯示試樣內(nèi)部十分細小的組織形貌襯度，而且可以獲得許多與樣品晶體結(jié)構(gòu)如點陣類型、位向關(guān)系及缺陷組態(tài)等有關(guān)信息。薄膜樣品主要指晶體樣品，如金屬、半導(dǎo)體、絕緣晶體等。制備方法有很多，如電解拋光、化學(xué)拋光、解理法、超薄切片法、離子轟擊法等，都是從大塊樣品上制取薄膜的方法。