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RF射頻電源

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更新時(shí)間:2023-12-10 10:27:43瀏覽次數(shù):155

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PECVD系統(tǒng),它由管式爐,石英真空室、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成

詳細(xì)介紹

PECVD系統(tǒng),它由管式爐,石英真空室、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。主要使用于:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復(fù)合薄膜,石墨烯等生長(zhǎng)。增加功能容易,可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能。該P(yáng)ECVD系統(tǒng)具有: 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。

 RF射頻電源主要技術(shù)參數(shù):

功率輸出范圍

  0-500W

反射功率

 200W

工作頻率

射頻:13.56MHZ±0.005%

功率穩(wěn)定度

 +/-0.1%

諧波分量

≤-50dbc

射頻區(qū)域?qū)挾?/p>

0-600mm 可調(diào)

匹配方式 

 自動(dòng)

 冷卻方式

 分冷

 噪聲

 <50dB

 射頻接口

 50Ω   N-type

輸入電源 

 208-240V  50/60HZ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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