YZX-1000型X熒光光譜儀

X熒光光譜分析儀

采購項目

YZX-1000

設(shè)備推薦文件

正本

目 錄

一、 公司介紹}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;3

二、 產(chǎn)品介紹及技術(shù)指標(biāo)}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;4

三、 產(chǎn)品配置、功能、分析精度及穩(wěn)定性}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;5

四、 產(chǎn)品優(yōu)勢及軟件說明}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;7

產(chǎn)品保修及售后務(wù)}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;15

六、 主要戶名單}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;}39;16

一、公司基本情況介紹

是一家研發(fā)、制造、銷售金屬成份分析、環(huán)保、重金屬分析等領(lǐng)域光譜儀器開發(fā)的民營高科技公司，公司以技術(shù)、品牌、質(zhì)量、務(wù)為核心，為國內(nèi)外戶提供高質(zhì)量、高性能和平價的金屬成分與環(huán)保分析檢測儀器產(chǎn)品及解決案，產(chǎn)品居國內(nèi)同類產(chǎn)品位。

公司研制的金屬分析光譜儀，集金屬成份分析、RoHS檢測、鍍層厚度檢測于一體，具備的性價比。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于礦山、化工、金銀首飾、冶煉及金屬加工、機械與制造等行業(yè)，對企業(yè)產(chǎn)品品質(zhì)檢測、成本控制、生產(chǎn)效率的提高有著的經(jīng)濟實用價值。經(jīng)過大量環(huán)境試驗、生物實驗及相關(guān)檢測實驗中心的數(shù)據(jù)驗證，本公司所生產(chǎn)的金屬分析光譜儀的精確度及性能居國內(nèi)同行業(yè)位，測試范圍由RoHS的六種物質(zhì)擴大到六十幾種元素，而且還可以按照自身要求任意添加，該列儀器在滿足普通RoHS環(huán)保檢測的基礎(chǔ)上，還可對金屬材料成份進行精確的定性定量分析，中國金屬分析領(lǐng)域在此面的空白，可與國外發(fā)達國家的同類設(shè)備相媲美。

公司立足、面向未來，致力于研發(fā)制造技術(shù)更、功能更全面、布局更完善的光檢測分析儀器，形成用于金屬、非金屬成分分析檢測的ICP離、激光、熒光、火花直讀等品類列及用于環(huán)境、食品、有機物成分檢測分析的儀器的完整列產(chǎn)品，讓公司步入同類企業(yè)行列。

公司研發(fā)隊伍強勁，并與美國密西根大學(xué)光譜領(lǐng)域?qū)＜?、清華大學(xué)精密儀器教授、韓國ISP公司攜手合作，以歐美現(xiàn)有技術(shù)為基礎(chǔ)，在X射線光譜儀核心技術(shù)上取得重大突破的同時，還擁有多項的技術(shù)和差異化產(chǎn)品，多項核心技術(shù)處于國際水平。

公司視產(chǎn)品質(zhì)量為企業(yè)之基，依據(jù)ISO9001質(zhì)量控制體和ISO14001環(huán)境管理體，對已定型產(chǎn)品在其來料、加工過程、整機、出貨各個環(huán)節(jié)嚴格把關(guān)，確保產(chǎn)品的性能和質(zhì)量精優(yōu)。

二、產(chǎn)品介紹及技術(shù)指標(biāo)

1. 產(chǎn)品名稱及型號 X射線金屬成份分析光譜儀 - YZX-1000

2. 制造商

3. 產(chǎn)品圖片

X射線金屬成份分析光譜儀 型號YZX-1000

4. 工作條件

● 工作溫度15-30℃

● 相對濕度≤70%

● 源AC 220V ±5V

● 功 率150W + 550W

5. 技術(shù)性能及指標(biāo)

● 元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)；

● 元素含量分析范圍為1 PPm到99.99%；

● 測量時間80-120秒；

● 多次測量重復(fù)性可達0.1％；

● 能量分辨率為130±5伏特；

● 溫度適應(yīng)范圍為15℃至30℃；

● 源交流220V±5V（建議配置交流凈化穩(wěn)壓源。）；

● 多變量非線性去卷積曲線擬合；

● 高斯平滑濾波校正；

● 高性能FP軟件、MLS分析；

● 一次可同時分析25個元素；

三、產(chǎn)品配置、功能、分析精度及穩(wěn)定性

（一）產(chǎn)品配置

1.硬件主機壹臺，含下列主要部件

(1) X光管；

(2) 制冷半導(dǎo)體探測器（SDD）；

(3) 控制統(tǒng)；

(4) 樣品臺（包含載物架，為可更換配件）；

(5) 準直器；

(6) 濾光片；

(7) 高壓源統(tǒng)；

(8) 樣品腔 190mm*190mm×44mm ；

(9）空泵/SMC空磁閥/空壓力表等

2. 軟件X熒光光譜儀成份分析軟件V6.0

3. 計算機一臺品牌想

4. 打印機一臺

注設(shè)備如需要配穩(wěn)壓器，需另計。

（二）功能、 分析精度及穩(wěn)定性

銅合金(銅礦及銅精粉)成份分析;

同時可擴展分析鋁合金(高鋁熟料及鋁土礦)，鐵合金(鐵礦石及鐵精粉)，鉛錫合金(鉛鋅礦及錳、鉻礦)等其他合金，以及石灰石、白云石、硅酸鹽、螢石等各種礦石。需要時需做必要的技術(shù)交流。

暫時不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O；

分析精度及穩(wěn)定性

1） Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, Ti, W, Au, Ag, Sn等重金屬含量的檢測限達20～30ppm，對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標(biāo)準

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.1～0.2%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值達0.05%～0.1%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值達0.01～0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率10～15%

2） Mg, Al, P, S, Si, As等金屬成份含量的檢測限達50ppm，對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標(biāo)準

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值達0.1% ～0.2%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值達0.05%～0.1%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值達0.01～0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率達10～15%

3）. 不銹鋼牌號驗證；

4）. 可以檢測分析樣品狀態(tài)液體，固體，粉末。

四、產(chǎn)品優(yōu)勢及軟件說明

（一）. 產(chǎn)品優(yōu)勢

1． 可帶鍍層檢測，一機多用省投資

2． 可檢測固體、液體、粉末狀態(tài)材料

3． 能檢測分析多達60多種元素，一次檢測可顯示25種元素針對銅、鐵、鋅、不銹鋼等任意基體做成分分析

4． 運行及維護成本低、無易損易耗品，對使用環(huán)境相對要求低

5． 可進行未知標(biāo)樣掃描、無標(biāo)樣定性，半定量分析

6． 操作簡單、易學(xué)易懂、精準無損、高品質(zhì)、高性能、高穩(wěn)定性，快速出檢測結(jié)果（40-120秒）

7． 可針對戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件

8． 軟件升級

9． 眾多，媲美國外發(fā)達國家之同類設(shè)備

10．無損檢測，一次性購買標(biāo)樣可使用

11．使用安心無憂，售后務(wù)響應(yīng)時間24H以內(nèi)，提供全位保姆務(wù)

（二）軟件說明

1．儀器工作原理說明

2. 軟件工作架構(gòu)圖

YZX1000型號光譜儀采用了目前國際上的軟件算法，基本參數(shù)法（FP）。善時公司經(jīng)過近10年的開發(fā)和完善，使軟件已經(jīng)具備了完善的使用內(nèi)容外，還具備強大的教學(xué)和科研開發(fā)功能。

下面是關(guān)于光譜儀和軟件的簡單介紹

YZX-1000型號光譜儀軟件算法的主要處理法

1) Smoothing譜線光滑處理

2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除

3) Sum Peak Removal 疊加峰去除

4) Background Removal 背景勾出

5) Blank Removal 空峰位去除

6) Intensity Extraction 強度提取

7) Peak Integration 圖譜整合

8) Peak Overlap Factor Method 波峰疊加因素法

9) Gaussian Deconvolution 高斯反卷積處理

10) Reference Deconvolution 基準反卷積處理

軟件開發(fā)的過程中我們參考了如下文獻（FP References）

(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis," 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).

(b) “Principles of uantitative X-Ray Fluorescence Analysis," by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).

(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry Methods and Techniques," eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).

(d) “An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for uantitative X-Ray Fluorescence Analysis," P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).

(e) “Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions," P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).

(f) “uantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis," H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).

(g) “An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV)," H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(h) “Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis," H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(i) “Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra," B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).

(j) “Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines," T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).

(k) “Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells," M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).

(l) X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).

(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients," Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).

(n) "Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).

(o) “The Electron Microprobe," eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).

(p) “Compilation of X-Ray Cross Sections," UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).

(q) “X-ray Interactions Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92," B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).

(r) “Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels," J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).

(s) “Fluorescence Yields, a4;k (12 ≤ Z ≤ 42) and a4;l3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM)," W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).

(t) “Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for uantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV)," C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).

(u) “Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples," D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).

(v) “Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays," T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).

(w) “X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films," M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).

(x) “General Approach for uantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters," F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).

(y) “uantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films," Thin Solid

Films 157, 283 (1988).

(z) “Fundamental-Parameter Method for uantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources," presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).

3．軟件界面

1）圖譜界面

圖譜界面可以任意調(diào)整大小，便于在研發(fā)過程中盲樣分析時對各種元素的尋找。

參數(shù)設(shè)定界面

包含了盡量多的參數(shù)設(shè)定窗口，可以便使用員，尤其是研發(fā)員對軟件和分析結(jié)果狀態(tài)的了解。

4. 穩(wěn)定性分析數(shù)據(jù)

五、產(chǎn)品保修及售后務(wù)

1. 協(xié)助做好安裝場、環(huán)境的準備工作、指導(dǎo)并參與設(shè)備的安裝、測試、診斷及各項工作。

2. 對戶操作員進行培訓(xùn)。

3. 安裝、調(diào)試、驗收、培訓(xùn)及技術(shù)務(wù)均為免費在用戶現(xiàn)場對操作員進行培訓(xùn)。

4. 整機保修一年，終身維修,保修期從我行驗收合格后并正投入使用之日起計算。

5. 免費提供軟件升級

6. 保修期內(nèi)，提供全天 24小時（包含節(jié)假日）技術(shù)支持及現(xiàn)場維護務(wù)。在接到設(shè)備故障報修后，提供遠程故障解決案（1小時內(nèi)）, 如有需要，24小時內(nèi)派上門維修和排除故障。

六、主要戶名單

以下僅為部分戶參考名單